Ⅰ 硼酸的廢水排放標准
硼酸等工業污染物銀基升排放標准為GB4283－84。
1、根據《污水綜合排放標准》第四條標准分級：排入GB3838Ⅲ類水域（劃定的保護區和游泳區除外）和排入GB3097中二類海域的污水，執行一級標准；排入GB3838中Ⅳ、Ⅴ類水域和排入GB3097中三類海域的污水，執行二級標准。
2、工業廢水包括生產廢水、生產污水及冷卻水，是指工業生產過程中產生的廢水和廢液，其中含有隨水流失的工業生產用料、中間產物、副產品以及生產過程中產鋒譽生的污染物。工業廢水種鋒老類繁多，成分復雜。
Ⅱ 超純水除硼 ，晶元專用超純水硼的去除方法
硼作為五號元素，處於IIIA族中唯一的非金屬元素。它是製造P型半導體的關鍵摻雜劑，半導體的極限電壓依賴於基材中的硼含量。在半導體製造中，水、氣、化學物質直接與產品接觸，超純水的質量至關重要。若超純水中硼含量控制不力，將影響基材中硼的含量。
在低濃度下，硼在水中以硼酸或硼酸根形式存在，其比例隨pH值變化。pH超過11時，主要以硼酸根形式存在；而pH小於7時，主要以硼酸形式存在。硼酸的電離常數僅為5.8 x 10-10，電離能力極弱，因此，常規水處理過程中，硼酸難以去除。
超純水中的硼離子去除需結合高級凈化技術，包括預處理、反滲透、離子交換、蒸餾、紫外線或超濾等。一個完整的超純水系統整合了這些工藝，通過過濾、離子交換、精密加葯、反滲透膜處理、紫外線消毒和EDI（電去離子）及拋光離子吸附過濾等環節，確保最終產水的電阻率超過18.25MΩ/cm，達到超純標准。
地殼中硼的平均豐度為10ppm，火成岩中含硼量在12ppm至8ppm之間。在半導體製造中，硼的存在會嚴重影響設備性能和實驗結果，因此需要採取措施去除超純水中的硼離子。
晶元半導體行業對硼的要求為10ppt以下，現有部分工藝無法滿足該標准。杜笙離子交換樹脂CH-99通過選擇性吸附硼，確保出水穩定無波動。
Tulsimer® CH-99是一款高效選擇性離子交換樹脂，專為去除水溶液中的硼及其鹽而設計。它在廣泛的pH范圍內表現出色，並能高效去除硼及其鹽，即使在有其他離子存在的情況下也是如此。通過其胺聚羥基官能團與硼酸鹽緊密結合，形成穩定的絡合物，從而去除硼酸鹽，不受其他陰離子影響。
二、重要參數
Tulsimer® CH-99按嚴格工藝製成，作為去除水溶液中硼及其鹽的選擇性離子交換樹脂，其特點和優勢主要體現在以下幾個方面：
1. 高選擇性：CH-99樹脂具有與硼生成絡合物的多羥基胺功能基團，使其在低濃度環境下也能高效吸附硼元素。
2. 高吸附速度：優化的三維空間立體網路樹脂結構和功能活性基團，確保快速吸附動力學，提高處理效率。
3. 強吸附性能：高吸附容量和吸附速度，能有效降低溶液中硼的濃度，適用於低濃度環境下的硼元素去除和回收。
4. 顯著經濟效益：高效吸附性能降低操作時間與樹脂使用量，減少能耗及整體成本，提高經濟效益。
5. 穩定性強：在多種鹽類共存環境中，對CH-99樹脂影響較小，保持穩定的吸附效果，不易受其他物質影響。
6. 廣泛應用：適用於飲用水處理、超純水、海水淡化、廢水除硼等多個領域。
7. 環保友好：通過選擇性吸附而非化學沉澱，減少化學試劑使用，降低二次污染風險。