Ⅰ 反滲透結垢的判斷和處理
摘要 首先，反滲透設備在運行過程中，低壓沖洗產生的壓力會產生淡水，兩側水的濃度會加深，同時也會導致鹽的濃度加深，鹽中含有大量的可沉澱物質，久而久之，就會出現結垢現象。其次，阻垢劑裝置漏葯較為嚴重，極有可能影響到反滲透阻垢劑的加葯用量，在加葯過程中，葯劑不均勻也是導致反滲透膜結垢的重要原因。最後，設備停機的過程中沒有及時進行沖洗也會導致反滲透膜結垢。
Ⅱ 反滲透膜清洗劑配方
反滲透膜清洗幾種常用配方：
反滲透膜清洗配方劑1：
1%-2%檸檬酸溶液或0.4%HCl溶液，適用於鐵污染及碳酸鹽結晶污堵。
反滲透膜清洗配方劑2
0.2%NaClO+0.1%NaOH溶液，適用於清洗由有機物及活性生物引起的膜組件的污染。
反滲透膜清洗配方劑3
0.3%H2O2+0.3%NaOH溶液，適用於清洗由glutamic acid發酵液引起的膜組件的污染。
反滲透膜清洗配方劑4
1%甲醛溶液，適用於細菌污染的超濾；
反滲透膜清洗配方劑5
HNO3的0.5%水溶液，適用於電泳漆處理過程中磷酸鉛對膜組件造成的污堵（此清洗必須在其他常規化學清洗之後進行。）；
反滲透膜清洗配方劑6
20%的Na2CO3、7%的Na3PO4、3%的NaOH、0.5%的EDTA，主要用於膠體污染物造成的膜污染；
反滲透膜清洗配方劑7
9%的十二烷基苯磺酸鈉、9%的表面活性劑、0.4%的NaOH、0.15的無水碳酸鈉、11%的磷酸鈉、10%的硅酸鈉，清洗時需注意pH的控制，有些膜不適用於高pH清洗液的清洗，要慎重選擇，主要用於清洗含油廢水所造成的膜污染。
反滲透膜清洗配方劑8
3%的H3PO4、0.5%的EDTA-2Na、0.5%的LBOW專用清洗劑，主要用於清洗蛋白質和油脂污染物造成的污染。
反滲透膜清洗配方劑9
20%的H2SO4，主要用於硅垢結晶造成的污染。
RO膜元件是反滲透設備系統中重要的部分，其日常維護的好壞直接影響到系統出水水質的好壞，這里對於反滲透膜的清洗方法加以概述，系統說明反滲透膜在運行中可能出現的污染物以及相對應的清洗方法。
Ⅲ 反滲透膜如何清洗 用什麼葯液
酸洗！加檸檬酸PH值2左右！我這里的反滲透是2×100的！所以加葯量比較大！鹼洗！加EDTA,十二烷基！
Ⅳ 反滲透膜的清洗步驟
物理清洗方法：
1.停止裝置
慢慢的把操作壓力降低，逐步停止裝置。，因為如果一下子停止裝置會導致裝置中的壓力快速的下降形成水錘，沖擊對管道、壓力容器以及膜元件造成一定的損傷。
2.調節閥門
首先把濃溶液的水閥門全部打開；之後把進水的閥門關閉；接著把產水閥門打開到最大。如果把關閉閥門順序搞錯了，就可能會產生背壓對壓力容器中的後端的膜元件造成械性的損害
3.清洗作業
首先把低壓清洗泵打開；然後再慢慢的把進水閥打開，這時候一定要注意觀察濃縮水流量計的流量；調節進水閥門一直調到流量和壓力都達到預先設計好的值；最後在10-15分鍾後慢慢地關閉進水閥門，停止進水泵。
化學清洗方法：
化學清洗方法是利用化學葯劑進行清洗的，針對不同的污染物要選用不同的化學葯劑，下面也會給大家介紹什麼污染物選用什麼化學葯劑。
反滲透膜清洗化學葯劑選用圖
檸檬酸清洗
在採用檸檬酸溶液進行清洗之前，先用軟化水或者 RO 產品水對膜元件進行沖洗。向清洗水箱中添加檸檬酸（白色粉末），對溶液進行連續的攪動，使檸檬酸迅速和充分溶解，使檸檬酸溶液濃度達到 2%（質量百分比）。在添加葯品之前，將大塊的葯品敲碎，以避免對攪拌器和水泵造成損壞。
十二烷基磺酸鈉(Na-SDS)清洗劑清洗
配製 0.025%（質量百分比濃度）十二烷基磺酸鈉和 0.1%（質量百分比濃度）NaOH 溶液，控制溶液溫度小於 30℃，其 pH 控制范圍在 pH12 以內。此種方法最好作為系統的第一步化學清洗。
六聚偏磷酸鈉+鹽酸的清洗
向水中添加 SHMP（白色粉末），小批量逐步添加，以達到 1.0%濃度（質量百分比）溶液。使用攪拌器連續地攪拌溶液，使化學葯品均勻混合。
緩慢的將鹽酸（HCl）添加到 SHMP 溶液中，直到溶液的 pH 值達到 2。鹽酸（HCl）是一種腐蝕性的無機酸，在處理鹽酸時要注意安全規則。
溶液的 pH 值應該接近，但是要大於 2。 如果在清洗期間溶液的 pH 值升高超過 3.5，則要添加鹽酸（HCl）直到 pH 值恰好大於 2。如果 pH 值降低到小於 2，使用 NaOH 進行調節。NaOH 是一種腐蝕性無機鹼，在使用時要注意安全規則。
如果看完還是不怎麼清洗的話這時有詳細的介紹網頁鏈接
Ⅳ 反滲透膜清洗有哪些方法怎麼才能知道反滲透膜需要清洗
在正常運行一段時間後，反滲透膜元件會受到在給水中可能存在的懸浮物質或難溶物質的污染，這些污染物中最常見的為碳酸鈣垢、硫酸鈣垢、金屬氧化物垢、硅沉積物及有機或生物沉積物 。
Ⅵ RO反滲透系統常見污染除垢方法有哪些
需要的，反滲透膜的清洗是很重要的，對反滲透膜的使用壽命有很大的影響專。對於設備中反滲屬透膜主要是用來將原水中的污染物質盡最大可能的去除掉，但是原水中的雜質會積留在反滲透膜的表面，導致反滲透膜的堵塞，一直污染。對於反滲透膜的清洗主要是通過化學方法進行處理，它的清洗劑一般採用的是酸鹼劑，PH一般在2-12之間，對於清洗劑的最佳使用溫度應該是45攝氏度，而且污染物有的甚至是粘泥類的，隨著時間的積累還會被壓縮增厚，清洗起來難度很大。對於反滲透膜的清洗過程主要是循環清洗，把濃水的出水管道直接放在清洗葯箱中。
Ⅶ 反滲透RO膜及清洗方法怎樣的預處理才能使RO膜的壽命達到最大海德能ESPA2-4040大概多久換一次
注 1：在任何情況下不要讓帶有游離氯的水與復合膜元件接觸，如果發生這種接觸，將會造成膜元件性能下降，而且再也無法恢復其性能，在管路或設備殺菌之後，應確保送往反滲透膜元件的給水中無游離氯時，應通過化驗來確證，應使用酸溶液來中和殘余氯，並確保足夠的接觸時間以保證反應完全。
注 2：在反滲透膜元件擔保期內，建議每次滲透膜清洗應與公司協商後進行，至少在第一次清洗時，公司的現場服務人員應在現場。
注 3：在清洗溶液中應避免使用陽離子表面活性劑，因為如果使用可能會造成膜元件的不可逆轉的污染。
1. 反滲透膜元件的污染物
在正常運行一段時間後，反滲透膜元個會受到在給水中可能存在的懸浮物質或難溶物質的污染，這些污染物中最常見的為碳酸鈣垢、硫酸鈣垢、金屬氧化物垢、硅沉積物及有機或生物沉積物。
污染物的性質及污染速度與給水條件有關，污染是慢慢發展的，如果不早期採取措施，污染將會在相對短的時間內損壞膜元件的性能。定期檢測系統整體性能是確認膜元件發生污染的一個好方法，不同的污染物會對膜元件性能造成不同程度的損害。
表 1 列出了常見污染物對膜性能的影響。
2. 污染物的去除
污染物的去除可通過化學清洗和物理沖洗來實現，有時亦可通過改變運行條件來實現，作為一般的原則，當下列情形之一發生時應進行清洗。
2.1 在正常壓力下如產品水流量降至正常值的 10 ～ 15% 。
2.2 為了維持正常的產品水流量，經溫度校正後的給水壓力增加了 10 ～ 15% 。
2.3 產品水質降低 10 ～ 15% 。鹽透過率增加 10 ～ 15% 。
2.4 使用壓力增加 10 ～ 15%
2.5 RO 各段間的壓差增加明顯 ( 也許沒有儀表來監測這一跡象 ) 。
3. 常見污染物及其去除方法：
3.1 碳酸鈣垢
在阻垢劑添加系統出現故障時或加酸系統出現而導致給水 PH 升高，那麼碳酸鈣就有可能沉積出來，應盡早發現碳酸鈣垢沉澱的發生，以防止生長的晶體對膜表面產生損傷，如早期發現碳酸鈣垢，可以用降低給水PH值至3.0 ～ 5.0之間運行 1 ～ 2 小時的方法去除。對沉澱時間更長的碳酸鈣垢，則應採用RT-818A清洗液進行循環清洗或通宵浸泡。
註：應確保任何清洗液的 PH值不要低於 2.0 ，杯則可能會 RO 膜元件造成損害，特別是在溫度較高時更應注意，最高的 PH 不應高於 11.0 。查使用氨水來提高 PH ，使用硫酸或鹽酸來降低 PH 值。
3.2 硫酸鈣垢
RT-818B清洗劑是將硫酸鈣垢從反滲透膜表面去除掉的最佳方法。
3.3 金屬氧化物垢
可以使用上面所述的去除碳酸鈣垢的方法，很容易地去除沉積下來的氫氧化物 ( 例如氫氧化鐵 ) 。
3.4 硅垢
對於不是與金屬化物或有機物共生的硅垢，一般只有通過專門的清洗方法才能將他們去除，有關的詳細方法請與公司聯系。
3.5 有機沉積物
有機沉積物 ( 例如微生物粘泥或霉斑 ) 可以使用RT-818C 清洗劑去除，為了防止再繁殖，可使用經海德能公司認可的殺菌溶液在系統中循環、浸泡，一般需較長時間浸泡才能有效，如反滲透裝置停用三天時，最好採用消毒處理，請與公司會商以確定適宜的殺菌劑。
3.6 清洗液
清洗反滲透膜元件時建議採用RT-818系列RO膜系統清洗劑。確定清洗前對污染物進行化學分析十分重要的，對分析結果的詳細分析比較，可保證選擇最佳的清洗劑及清洗方法，應記錄每次清洗時清洗方法及獲得的清洗效果，為在特定給水條件下，找出最佳的清洗方法提供依據。
對於無機污染物建議使用RT-818A 。對於硫酸鈣及有機物污染建議使用RT-818B 。對於嚴重有機物污染建議使用RT-818C 。所有清洗可以在最高溫度為攝氏 40℃以下清洗 60 分鍾，所需用品量以每100 加侖 (379 升 ) 中加入量計算，配製清洗液時按比例加入葯品及清洗用水，應採用不含游離氯的反滲透產品水來配製溶液並混合均勻。
清洗時將清洗溶液以低壓大流量在膜的高壓側循環，此時膜元件仍裝壓力容器內而且需要用專門的清洗裝置來完成該工作。
清洗反滲透膜元件的一般步驟：
1. 用泵將干凈、無游離氯的反滲透產品水從清洗箱 ( 或相應水源 ) 打入壓力容器中並排放幾分鍾。
2. 用干凈的產品水在清洗箱中配製清洗液。
3. 將清洗液在壓力容器中循環 1 小時或預先設定的時間，對於8 英寸或 8.5 英寸壓力容器時，流速為 35~40 加侖/分鍾 (133~151 升/分鍾 ) ，對於 6 英寸壓力容器流速為 15~20 加侖/分鍾 (57~76 升/分鍾 ) ，對於 4 英寸壓力容器流速為 9~10 加侖/分鍾 (34~38 升/分鍾 ) 。
4. 清洗完成以後，排凈清洗箱並進行沖洗，然後向清洗箱中充滿干凈的產品水以備下一步沖洗。
5. 用泵將干凈、無游離氯的產品水從清洗箱 ( 或相應水源 ) 打入壓力容器中並排放幾分鍾。
6. 在沖洗反滲透系統後，在產品水排放閥打開狀態下運行反滲透系統，直到產品水清潔、無泡沫或無清洗劑 ( 通常需 15~30 分鍾 ) 。
Ⅷ 硫酸鈣垢用什麼清洗劑才能清除干凈
清達環保有一款專利產品，專業清理硫酸鈣垢，用的效果挺好。你可以試一下！
Ⅸ 反滲透如何反洗
反滲透膜正常運行一段時間後，反滲透膜元件會受到給水中可能存在懸浮物或難溶鹽的污染，這些污染中最常見的碳酸鈣沉澱、硫酸鈣沉澱、金屬(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)氧化物沉澱、硅沉積物、無機或有機沉積混合物、NOM天然有機物質、合成有機物(如：阻垢劑/分散劑，陽離子聚合電解質)微生物藻類、黴菌、真菌)等污染。污染性質和污染速度取決於各種因素，如給水水質和系統回收率。通常污染是漸進發展的,如不盡早控制，污染將會在相對較短的時間內損壞膜元件。當膜元件確證已被污染，或是臨時停機之前，或是作為定期日常維護，建議對膜元件進行清洗。當反滲透系統（或裝置）出現以下症狀時，需要進行化學清洗或物理沖洗：正常給水壓力下，產水量較正常值下降10-15%,為維持正常的產水量，經溫度校正後的給水壓力增加10-15%,產水水質降低10-15%,透鹽率增加10-15%,給水壓力增加1015%,系統各段之間壓差明顯增加。
已受污染的反滲透膜的清洗周期根據現場實際情況而定。正常的清洗周期是每3-12個月一次。當膜元件僅僅是發生了輕度污染時，重要的清洗膜元件。重度污染會因阻礙化學葯劑深入滲透至污染層，影響清洗效果。
清洗何種污染物以及如何清洗要根據現場污染情況而進行。對於幾種污染同時存在復雜情況，清洗方法是採用低PH和高PH清洗液交替清洗（應先低PH後高PH值清洗）
污染物情況分析:1碳酸鈣垢：碳酸鈣垢是一種礦物結垢。當阻垢劑/分散劑添加系統出現故障時，或是加酸pH調節系統出故障而引起給水pH增高時，碳酸鈣垢有可能沉積出來。盡早地檢測碳酸鈣垢，對於防止膜層表面沉積的晶體損傷膜元件是極為必要的早期檢測出的碳酸鈣垢可由降低給水的pH值至3-5運行1-2小時的方法去除。對於堆積時間長的碳酸鈣垢，可用低pH值的檸檬酸溶液清洗去除。2硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢：硫酸鹽垢是比碳酸鈣垢硬很多的礦物質垢，且不易去除。硫酸鹽垢可在阻垢劑/分散劑添加系統出現故障或加硫酸調節pH時沉積出來。盡早地檢測硫酸鹽垢對於防止膜層表面沉積的晶體損傷膜元件是極為必要的硫酸鋇和硫酸鍶垢較難去除，因為它幾乎在所有的清洗溶液中難以溶解，所以，應加以特別的注意以防止此類結垢的生成。3金屬氧化物/氫氧化物污染：典型的金屬氧化物和金屬氫氧化物污染為鐵、鋅、錳、銅、鋁等。這種垢的形成導因可能是裝置管路、容器(罐/槽)腐蝕產物，或是空氣中氧化的金屬離子、氯、臭氧、鉀、高錳酸鹽，或是由在預處置過濾系統中使用鐵或鋁助凝劑所致。4聚合硅垢：硅凝膠層垢由溶解性硅的過飽和態及聚合物所致，且非常難以去除。需要注意的這種硅的污染不同於硅膠體物的污染。硅膠體物污染可能是由與金屬氫氧化物締合或是與有機物締合而造成的硅垢的去除很艱難，可採用傳統的化學清洗方法。現有的化學清洗葯劑，如氟化氫銨，已在一些項目上得到勝利的使用，但使用時須考慮此方法的操作危害和對設備的損壞，加以防護措施。5膠體污染：膠體是懸浮在水中的無機物或是有機與無機混合物的顆粒，不會由於自身重力而沉澱。膠體物通常含有以下一個或多個主要組份，如：鐵、鋁、硅、硫或有機物。6非溶性的天然有機物污染(NOM),非溶性天然有機物污染(NOMNaturOrganicMatter)通常是由地表水或深井水中的營養物的分解而導致的有機污染的化學機理很復雜，主要的有機組份或是腐植酸，或是灰黃霉酸。非溶性NOM被吸附到膜表面可造成RO膜元件的快速污染，一旦吸收作用發生，漸漸地結成凝膠或塊狀的污染過程就會開始。7微生物堆積：有機堆積物是由細菌粘泥、真菌、黴菌等生成的這種污染物較難去除，尤其是給水通路被完全堵塞的情況下。給水通路堵塞會使清潔的進水難以充分均勻的進入膜元件內。為抑制這種沉積物的進一步生長，重要的不只要清潔和維護RO系統，同時還要清潔預處理、管道及端頭等。對膜元件採用氧化性殺菌時，使用認可的殺菌劑。
清楚污染物慣例清洗液介紹1.[溶液1]2.0%W檸檬酸(C6H8O7低pH)pH值為3-4清洗液。以於去除無機鹽垢(如碳酸鈣垢、硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢等)金屬氧化物/氫氧化物(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)及無機膠體十分有效。
2.[溶液2]0.5%W鹽酸低pH清洗液(pH為2.5)主要用於去除無機物垢(如碳酸鈣垢、硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢等)金屬氧化物/氫氧化物(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)及無機膠體。這種清洗液比溶液1要強烈些，因為鹽酸(HCl)為強酸。3[溶液3]0.1%W氫氧化鈉高pH清洗液(pH為11.5）用於去除聚合硅垢。這一洗液是一種較為強烈的鹼性清洗液。4.[溶液4]氫氧化鈉-EDTA四鈉-六偏磷酸鈉清洗液。
清洗步驟：先用殺菌劑如1227清洗，再用溶液1清洗，再用溶液4清洗，最後用水沖洗至中性，所用水應為反滲透產水。
Ⅹ 反滲透膜結垢的原因是什麼如何防止
在系統正常運行一段時間後，反滲透膜元件會受到給水中可能存在內的懸浮物或容難溶鹽的污染，這些污染中最常見的是碳酸鈣沉澱、硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶沉澱、金屬（鐵、錳、銅、鎳、鋁等）氧化物沉澱、硅沉積物、無機或有機沉積混合物、NOM天然有機物質、合成有機物（如：阻垢劑/分散劑，陽離子聚合電解質）、微生物（藻類、黴菌、真菌）等。
物理清洗膜元件：低壓力、高流速的將反滲透產水來沖刷膜元件，可以把短期內在膜表面附著的污染物和堆積物清洗掉的一種有效方法。一般物理清洗頻率較高。
化學清洗膜元件：有些結垢情況通過物理清洗很難去除附著在膜元件表面的污染物和堆積物。這個時候就需要通過化學葯劑來對結垢進行去除。為了能夠達到最佳的清洗效果一般都是通過多種化學清洗葯劑進行組合清洗。而且葯劑的選擇以及清洗順序也是有嚴格要求的。
詳細預防方法可見官網：網頁鏈接