運行中混床樹脂層升高

Ⅰ 混床樹脂分層不好如何影響出水水質

陶氏混床樹脂分層不好會產生「交叉污染」，而這個污染對混床出水水質有如下兩個方面的影響：

1、分層不好是導致混床出水pH值偏低的主要原因。由於樹脂分層不好，陶氏樹脂會受到再生酸的污染。即：ROH+HCl—RCl+H20。當混床正洗或運行時，由於水中pH值不斷升高(直至4～7)，在這樣的pH范圍內，被酸污染的樹脂會產生水解：RCl+H20—ROH+HCl。由於水解產物HCl的影響，因而出現混床正洗時間過長或出水pH值偏低的情況。

陶氏混床樹脂

2、分層不好是導致混床出水含鹽量偏高的主要原因。由於分層不好，陽樹脂會受到再生鹼的污染。即：RH+NaOH—RNa+H20。這樣在混床正洗或運行時，陽樹脂上的Na+會被逐漸置換出來，進入水中。這樣一方面會使床子的正洗時間延長，另外也會使混床在運行時出水含鹽量高。

陶氏混床樹脂

陶氏混床樹脂的分層效果與下列因素

1、樹脂的濕真密度差。生產實踐表明：要保證混床樹脂有較好的分層效果，陽、陰樹脂間的濕真密度差應在15%～20%以上。樹脂的濕真密度差小於上述數值的，陽、陰樹脂的分層效果不好。

2、樹脂的粒度。樹脂粒度不均也會影響分層。為了保證分層效果，陽、陰樹脂的粒度應均勻，一般要求其粒度為0.3—0.5mm，均篩分大於90%(即90%的樹脂粒度變化范圍在±100斗m之內)。

3、樹脂的失效程度。樹脂在吸著不同離子後，密度不同、沉降速度也不同。對陽樹脂而言，不同離子型的密度排列為：pH當混床運行至終點時，如底層尚未失效的樹脂較多，則由上述排列可知：未失效的陽樹指(H型)和已失效的陰樹脂(S04型)密度差較小，所以分層就比較困難。此時，往往需反洗數次，才能完全地分層。

陶氏混床樹脂

4、「抱團」現象。H型和OH型樹脂有互相黏合的現象(俗稱「抱團」)，使分層困難。在實際生產中，為了克服③、④的困難，可採用在分層前向床中打部分鹼，將陰樹脂再生成OH型，使陽樹脂轉變成Na型，使兩種樹脂的密度差加大，從而加快其分層。

5、反洗操作不適當，反洗流速過小或時間過短。

Ⅱ 混床正在運行電導突然升高的原因

混床SI的監測，能體現出混床對活性二氧化硅的監測。當混床出水中二氧化硅超標時，那麼說明此時混床中的陰離子早已穿透，所以此時需要結合混床產水電導來監測。
而當混床中的陽樹脂量偏少或者再生時酸濃度異常或者酸純度異常等情況，前面得運行陽床中的鈉離子穿透將直接穿透混床。

所以混床硅和電導都合格的情況下鈉可能會超標。正常情況下，只需要監測混床出口的活性二氧化硅和電導。手動取樣分析是監測鈉，只是通過測定來分析混床運行或再生時，是否存在異常。用來輔助再生和運行操作

Ⅲ 混床運行中樹脂分層的原因及處理方法

1、混合時間不夠
2、混合時的壓縮空氣壓力及流量不夠
處理辦法：
1、延長混合時間
2、保證壓縮空氣壓力及流量

Ⅳ 混床電導率偏高

就算你加進去了！那也問題不大，你的膜怎麼樣？
你的混床的樹脂看是不是哪個廠家給你賣的是假貨，如果樹脂沒問題就看你酸鹼再生怎麼樣！

Ⅳ 混床樹脂出鹼水什麼原因

摘要 一、混床樹脂分層對出水水質的影響說明

Ⅵ 拋光混床的拋光樹脂分層是什麼原因引起的，怎麼來避免

拋光樹脂的分層一般分以下幾個原因引起：
1）很多用戶為了樹脂在裝填時能同步排除樹脂層縫隙中的氣泡，從而降低沖洗時間和降低水耗，提高樹脂交換容量的利用率，於是在初次裝填時在拋光柱內注水，有時由於注水過高（一般要求10cm即可）導致分層，如果非專業技術人員裝填，其實可以免去注水這一步驟，直接干裝效果會更穩定；
2）拋光混床使用過程中，由於生產用水不穩定，設備在運行過程中，存在用用停停現象，用於一般拋光混床樹脂設備都是上進水通過中心管後，由下部緩慢往上制水，由於用時樹脂層被頂起，停時樹脂層又降落，如此多次後導致樹脂層松動，而出現分層情況。這類設備可以在出水口加裝止回閥或設計循環制水；
3）由於部分小樹脂廠，為了降低生產成本，對拋光樹脂的再生率要求不高，導致樹脂本身抱團不夠緊密，容易在運行過程中自然分層。
以上回答如有疑問，可點擊我頭像內部信息進一步交流。

Ⅶ 運行中的混床強行輸出樹脂怎麼解決

這是指設備跑樹脂了吧，咋還用強行輸出樹脂這么牛的詞語呢😆
解決方法如下：
1、掏出混床設備內的樹脂，檢查底部水冒是否松動跑樹脂了；
2、順帶著檢查中排管是否平整，中排管是否也存在跑樹脂的情況。
混床設備都是上進水下出水，所以跑樹脂肯定從底部跑出去的，那麼基本判斷就是底部水冒松動了。

Ⅷ 混床有哪些運行注意事項

混床出水一般很穩定，工作條件變化時，對其出水水質影響不大。進水的含鹽量和樹脂的再生程度對出水電導率的影響一般不大，而與混床的工作周期有關。對於凈化一級除鹽水的混床，樹脂用量有較大的富餘度，其工作周期一般在15天以上。對混床的流速應適當地選擇，過慢會攜帶樹脂內的雜質而使水質下降；過快水與樹脂接觸時間短，離子來不及交換而影響水質。因此運行流速一般在40〜60m/h之間。系統間斷運行對混床出水水質影響也較小，無論是混床或是復床，當交換器停止工作後再投入運行時，開始出水的水質都會下降，要經短時間運行後才能恢復正常，混床恢復正常所需的時間要比復床的短。混床運行失效時，終點比較明顯。由混床出水特性可以看出，混床在交換末期，出水導電率上升很快，這有利於實現自動控制

Ⅸ 混床更換樹脂後，除鹽水二氧化硅高，而未更換樹脂的混床產水正常，二氧化硅高怎麼處理

混床出水SiO2超標的原因 ：
1.1除硅系統不完善。反滲透裝置後續處理直接為二級混床離子交換除鹽回. 由於 RO 為物理答除鹽,所以一級混床進水中含有 s0:一,cL 一,HC03,HSiO3-等所有 陰離子,經過混床陰 樹脂的交換後,進入二級混床的主要是 HCOf,HSi03-兩種陰離子,經測定其中 HSi03-含量是xJco;含 倍,這樣在終點到達時,失效的二級混床陰樹脂中,RHSiO,比例高達75%～85%.這時,常規 的再生方法已無法徹底去除硅酸,所以再次投運時會導致混床出水SiO:含量超標, 將這種現象稱之為 "硅污染".硅污染易發生在二級混床的強鹼性陰樹脂中,用正常的再生方法無法徹 底地將這些硅洗脫 來,其結果往往導致陰樹脂的除硅能力較大幅度的下降,再生後混床出水硅含量超標.
2.常規再生方法的不足。 對發生硅污染的混床,常規的再生用鹼量不足以保證再生效果,其原因:不足量的再生液流經樹脂層時先是發生部分硅化合物被再生下來的過程,部分硅化合物仍殘留在樹脂中。