反滲透膜除硅

㈠ 如何去除反滲透純水設備的硅酸鹽

硅在原水中以晶體顆粒和膠體形態存在,並且硅的存在形式與水的pH值有關.當給水版pH8時,硅酸會權轉化成硅酸根離子,它可與高價陽離子,如鈣、鎂、鐵、鋁等,形成不溶的硅酸鹽,在反滲透後段析出沉積而污堵.
反滲透膜中的硅酸鹽的清除方法:①0.4%二氯化銨清洗;②0.1%氫氟酸+0.4%Hcl清洗
同時水處理設備使用廠家應該控制控制二氧化硅濃度以保障反滲透設備系統的運行安全。因為，當PH小於9時，二氧化硅在水中的溶解度為125mg/l，隨溫度的升高而升高。所以控制二氧化硅濃度小於100mg/l，當進水中濃度小於20mg/l時不會發生結垢。

㈡ 硅如何去除

硅的去除可以通過多種方法實現，具體取決於硅的存在形態及廢水處理的具體需求。

化學沉澱法是一種常用的去除硅的方法。通過向廢水中加入適量的沉澱劑，這些沉澱劑能與硅酸鹽反應生成難溶的硅酸鈣、硅酸鎂或硅酸鐵等沉澱物。這些沉澱物隨後可以通過沉澱或過濾的方式從廢水中分離出來。例如，在鎂劑脫硅過程中，通常將鎂劑和石灰一起使用，通過調節pH值至最佳范圍，並加入適量的混凝劑，可以顯著提高除硅效果。

膜分離技術也是去除硅的有效手段之一。反滲透和超濾等膜技術利用膜的孔徑和電荷特性，能夠有效截留廢水中的硅酸鹽和膠體硅。反滲透技術不僅可以脫除膠體硅和溶解硅，還適用於凈化鍋爐補給水、回收冷卻塔排污水以及製取超純水等場合。超濾技術則主要通過篩分效應去除膠體硅，對溶解硅的脫除效果有限。這些膜技術具有處理效率高、出水水質好的優點，但需要注意膜的污染和堵塞問題，需要定期清洗和維護。

離子交換法利用特定的離子交換樹脂選擇性地吸附硅酸鹽離子，從而實現硅的去除。這種方法適用於處理低濃度的硅廢水，通過樹脂的再生過程可以恢復其吸附能力。離子交換法具有處理深度高、出水水質穩定的優點，但樹脂的再生和處置成本較高，需要綜合考慮經濟性和環保性。

生物處理法是一種新興的去除硅的方法，利用某些微生物的代謝作用將硅酸鹽轉化為細胞內的有機硅化合物，然後通過固液分離去除。這種方法具有成本低、環境友好的優點，但目前尚處於研究階段，需要進一步優化工藝參數和提高處理效率。

綜上所述，硅的去除方法多種多樣，具體選擇哪種方法需要根據廢水的水質特性、處理需求以及經濟成本等因素綜合考慮。在實際應用中，往往需要結合多種處理工藝以達到最佳的除硅效果。

㈢ ro膜如何清洗

反滲透膜的清洗方法可以分為兩種一種是物理清洗、另一種是化學清洗。一般只要不是很嚴重的那種採用物理清洗方法就可以了，如果不是很嚴重一般不建議選擇化學清洗因為化學清洗的頻次越高，對反滲透膜元件的損傷越大，嚴重影響了膜系統的使用壽命。

物理清洗方法：

1.停止裝置

緩慢地降低操作壓力，逐步停止裝置。急速停車造成的壓力急速下降會形成水錘，將會對管道、壓力容器以及膜元件造成沖擊性損傷。

2.調節閥門

首先全開濃縮水閥門；然後關閉進水閥門；接著全開產水閥門（如關閉系統後關閉了產水閥門）。如果錯誤的關閉產水閥門，壓力容器中的後端的膜元件可能因為產水背壓而造成膜元件機械性損傷。

3.清洗作業

首先啟動低壓清洗泵；然後緩慢地打開進水閥，同時觀察濃縮水流量計的流量；調節進水閥門直至流量和壓力調節到設計值；最後在10-15分鍾後慢慢地關閉進水閥門，停止進水泵。

化學清洗方法

①檬酸溶液，在高壓或低壓下，用1%-2%的檸檬酸水溶液對膜進行連續或循環沖洗，這種方法對Fe(OH)3污染有很好的清洗效果。

②檸檬酸銨溶液，檸檬酸的溶液中加入氨水或配成不同PH值的溶液，也可在檸檬酸銨的溶液中加HCL，調節PH值至2-2.5，例如在190L去離子水中，溶解277g檸檬酸胺，用HCL調節溶液PH值為2.5，用這種溶液在膜系統內循環清洗6小時，效果很好，若將該溶液加溫到35-40℃，清洗效果更好，該溶液對無機物的污染清洗效果均很好，但清洗時間較長。

③加酶洗滌劑，用加酶洗滌劑處理膜，對有機物污染，特別是對蛋白質，油類等有機物污染特別有效，若在50℃-60℃下清洗效果更好，[本文來自凈水器官網}一般的在運行10天或半個月後用1%的加酶洗滌劑在低壓下對膜進行一次清洗，由於所用加酶洗滌劑濃度較低，所以要求浸漬時間長一些。

④濃鹽水，對肢體污染嚴懲的膜採用濃鹽水清洗是有效的，這是由於高濃度鹽水能減弱膠體間的相互作用，促進膠體凝聚形成膠團。

⑤水溶性乳化液，用於清洗被油和氧化鐵污染的膜十分有效，一般清洗30-60分鍾。

⑥雙氧水溶液，例如將0.5L，30%的H2O2用12L去離子水稀釋，然後清洗膜表面，這種方法對有機物污染特別有效。

⑦次氯酸鈉和甲醛溶液，對於細菌的污染，要視不同的膜採取不同的處理措施，對芳香聚醯胺膜可用1%(重量)的甲醛溶液清洗，同時要經常分析反滲透濃水中保持0.2-0.5mg/l的余氯，以防止細菌繁殖。

⑧草酸和EDTA溶液，對於反滲透膜上的金屬氧化物沉澱，用草酸和EDTA溶液清洗為好。

㈣ 反滲透系統維護反滲透膜的清洗

在反滲透系統的運行過程中，膜元件可能會受到給水過程中可能存在的懸浮物或難溶解物質的污染，常見污染物包括碳酸鈣沉澱、硫酸鈣沉澱、金屬鐵、錳、銅、鎳、鋁等氧化物沉澱、硅沉積物、無機或有機沉積混合物、NOM天然有機物質、合成有機物如藻類、黴菌、真菌等。

針對不同類型的污染，清洗方法也有所不同。通常，清洗劑需要按照一定濃度稀釋，通過泵送入膜組件進行清洗。對於嚴重污染的情況，可採用浸泡過夜的方法，但需注意控制時間，避免化學劑與膜的接觸時間過長。在清洗過程中應盡量減少化學劑與膜的接觸時間，以避免對膜造成損害。

針對碳酸鈣垢的清洗，可以將給水的pH值調整到3.0~5.0之間，運行1~2小時以去除污染。對於硫酸鈣垢的清洗，建議使用三聚磷酸鈉7.7kg、EDTA鈉鹽3.18kg、反滲透產品水379kg，並通過硫酸調節pH值到10.0進行清洗，這是去除該垢的最佳方法。

對於金屬氧化垢，可以採用去除碳酸鈣垢的方法進行清洗。針對有機沉積物的清洗，則可使用三聚磷酸鈉7.7kg、十二烷基苯磺酸鈉0.97kg、反滲透產品水379L，並通過硫酸調節pH值到10.0進行清洗。若污染情況嚴重，可將該液浸泡12小時進行更徹底的清洗。

通過合理選擇清洗方法和化學劑，可以有效清除反滲透膜元件上的污染，恢復膜的性能，延長膜元件的使用壽命，確保反滲透系統的穩定運行。

㈤ 反滲透加離子交換法製取純水,電阻率達到18兆歐·厘米,二氧化硅還可能超過鍋爐用水標准碼標嗎化

根據提供的信息，使用反滲透加離子交換的制水工藝，出水電阻率達到18MΩ·cm，這意味著水中的離子濃度非常低，因此二氧化硅（硅膠）的濃度也應該很低。然而，雖然出水電阻率可以作為一種衡量水質的指標，但電阻率並不能直接反映水中各種污染物的濃度。

要確定二氧化硅的濃度是否可能超過40μg/l，建議進行水質分析，包括二氧化硅測量，以獲得准確的濃度值。常見的二氧化硅測量方法包括原子吸收光譜法、光散射法和色譜法等。

在制水過程中，反滲透工藝可以有效去除溶解性無機物質，包括硅酸鹽，因此反滲透工藝對二氧化硅的去除效果通常是很好的。一些其他的因素也會影響二氧化硅的濃度，如原水中的硅酸鹽濃度、操作溫度和壓力等。

如果水中二氧化硅的濃度超過40μg/l，可能是由於以下原因：

1、反滲透膜損壞或老化

如果反滲透膜出現損壞或老化，可能會導致二氧化硅通過，影響去除效果。

2、原水中硅酸鹽濃度較高

如果原水中硅酸鹽濃度很高，反滲透工藝可能無法完全去除，導致二氧化硅超標。

3、運行參數不合適

反滲透工藝的運行參數，如操作溫度、壓力和回收率等，如果設置不正確，可能會影響二氧化硅的去除效果。

針對以上可能原因，可以考慮以下改進措施：

1、定期檢查和維護反滲透裝置，確保膜組件的完好和性能。

2、對原水進行前處理，如添加硅膠凝聚劑或其他阻垢和螯合劑，以降低硅酸鹽濃度。

3、優化反滲透工藝的操作參數，確保最佳的去除效果。

最好的解決方案是進行水質分析，獲取准確的二氧化硅濃度數據，並與相關標准進行比較，以確定是否超過40μg/l。此外，對於制水工藝的優化和改進，建議咨詢專業的水處理公司或專業人員，根據具體情況進行調整和優化。

㈥ ro膜反滲透濾芯作用

ro膜反滲透濾芯作用如下：
第一級過濾：採用5微米PP棉濾芯，用於去除水中大於5微米的懸浮物和其他雜質。
第二級過濾：採用椰殼活性炭（9UDF），吸附水中異味，對水中各種雜質如氯、酚、砷、鉛、農葯等有害物質也有很高的去除率。
第三級過濾：採用1微米PP棉濾芯，用於去除水中大於1微米的懸浮物和其他雜質。
第四級過濾：採用RO反滲透膜，用特定的高分子材料製成的，具有選擇性能的薄膜。
第五級過濾：輪滑御悔後置活性硅化濾芯，硅是人體臘拆臘所必需的礦物，雖然人們不常聽說硅元素對人體的作用，但它是一種對於人類極其重要的礦物質。