ro水和去離子純凈水

㈠ 純水、RO水、軟化水的區別

純水又稱純凈水、去離子水，是指以符合生活飲用水衛生標準的水為原水，通過電滲析器法、離子交換器法、反滲透法、蒸餾法及其他適當的加工方法，製得的密封於容器內，且不含任何添加物，無色透明，可直接飲用的水，也可以稱為純凈物（在化學上），在試驗中使用較多，又因是以蒸餾等方法製作，故又稱蒸餾水。市場上出售的太空水，蒸餾水均屬純凈水;但純水還是少喝為好，因為裡面並沒有太多人體需要的礦物質。純水不易導電，是絕緣體。鉛酸蓄電池補水時要使用純水。
在化學角度來看，RO水不是純凈水，即使是有滲透過半透膜，但是並非100%能完全過濾掉一些可溶的鹽類的。
RO（Reverses Osmosis）即反滲透的水---亦即市售純凈水.其原理為在原水一端施加大於滲透壓力，而產生反滲透作用，此時溶解與非溶解無機鹽、重金屬、有機物菌體顆粒等無法透過半透膜，使水分子及較小分子之鹽類滲過半透膜，流向凈水的一邊，而污染成分濃縮於原水.原水逐漸濃縮，施加的壓力必須逐漸提高，直到無限大.而實際操作時是將濃縮水（廢水）排掉，繼續供入原水，以保持恆定之壓力.簡單來說反滲透的功能原理，就像是一支篩子，水被逼迫過一張像是玻璃紙的薄膜，其中只有極小的有機顆粒（粒子）才能通過，而污染不潔的水則由廢水口排出.
可以直接喝。
在日常生活中，我們經常見到水壺用久後內壁會有水垢生成。這是什麼原因呢？原來在我們取用的水中含有不少無機鹽類物質，如鈣、鎂鹽等。這些鹽在常溫下的水中肉眼無法發現，一旦它們加溫煮沸，便有不少鈣、鎂鹽以碳酸鹽形成沉澱出來，它們緊貼壺壁就形成水垢。我們通常把水中鈣、鎂離子的含量用「硬度」這個指標來表示。硬度1度相當於每升水中含有10毫克氧化鈣。低於8度的水稱為軟水，高於17度的稱為硬水，介於8～17度之間的稱為中度硬水。雨、雪水、江、河、湖水都是軟水，泉水、深井水、海水都是硬水。

㈡ 超純水、去離子水、RO水、蒸餾水、雙蒸水的區別

在實驗室和科研領域，選擇合適的水質至關重要。讓我們深入解析五種常見的水處理方式——超純水、去離子水、RO水、蒸餾水和雙蒸水，以理解它們各自的特性與應用。

• 超純水，又稱Ultrapure水，其電阻率超過18.3MΩ*cm，幾乎消除了所有導電介質、膠體物質、氣體和有機物。實驗室常用NANOpure或Milli-Q技術制備，通常源於去離子水或RO水的基礎。

從純度角度看，超純水>去離子水>雙蒸水>RO水>蒸餾水。在實際實驗中，超純水適用於高精度實驗，如ICP/MS、同位素分析等，而其他類型的水在特定條件下也能滿足一般需求。特別提示，注射用水通常從蒸餾水或去離子水經過蒸餾處理來去除熱源。

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㈢ 請問超純水和去離子水是不是一回事

不是一回事。

超純水和去離子水的區別：

1、概念不同

去離子水是指除去了呈離子形式雜質後的純水。國際標准化組織ISO/TC 147規定的「去離子」定義為：「去離子水完全或不完全地去除離子物質。」

超純水（Ultrapure water）又稱UP水，是指電阻率達到18 MΩ*cm（25℃）的水。這種水中除了水分子外，幾乎沒有什麼雜質，更沒有細菌、病毒、含氯二惡英等有機物，當然也沒有人體所需的礦物質微量元素，也就是幾乎去除氧和氫以外所有原子的水。

2、制備不同

超純水：

在原子光譜、高效液相色譜、超純物質分析、痕量物質等的某些實驗中，需要用超純水，超純水的制備如下：

（1）加入少量高錳酸鉀的水源，用玻璃蒸餾裝置進行二次蒸餾，再以全石英蒸餾器進行蒸餾，收集於石英容器中，可得超純水。

（2）使用強酸型陽離子和強鹼型陰離子交換樹脂柱的混合床或串聯柱。可充分除去水中的陽、陰離子，其電阻率達10 Q·cm的水，俗稱去離子水，再用全石英蒸餾器進行蒸餾，收集可得超純水。

去離子水：

去離子水是通過離子交換樹脂除去水中的離子態雜質而得到的近於純凈的水，其生產裝置設計的合理與否直接關繫到去離子水質量的好壞及運營的經濟性。

3、用途不同

超純水的用途：

電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、制葯、石油、化工、鋼鐵、玻璃、化工工藝用水、化學葯劑、化妝品、

單晶硅、半導體晶片切割製造、半導體晶元、半導體封裝 、引線櫃架、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件 、電容器潔凈產品及各種元器件、高壓變電器的清洗等

去離子水的用途：

實驗室、化驗室用水，一般實驗室的常規試驗、配置常備溶液、清洗玻璃器皿等；電子工業生產，如顯像管玻殼、顯像管、液晶顯示器、線路板、計算機硬碟、集成電路晶元、單晶硅半導體等；電力鍋爐，鍋爐所需軟化水、除鹽；

汽車、家用電器、建材表面塗裝、電鍍、鍍膜玻璃清洗等；石油化工行業,化工反應冷卻水、化學葯劑、生產配液用水等；工業紡織印染、鋼鐵清洗用水等；食品、飲料、酒類、化妝品生產用水；海水、苦鹹水等凈化。

㈣ 半導體製造對去離子水的要求

可以飲用，但必須確保是去離子水而不是無色無味的化學葯液。

帶RO反滲膜的家用凈水機和超市賣的不添加氯化鎂/鈣的純凈水其實就是去離子水。半導體工廠的去離子水和超市裡的純凈水都是經過反滲膜過濾的去離子水，不過半導體工廠的去離子水雜質和離子去除率更高。

長期大量喝純凈水/去離子水會導致礦物質缺乏，如缺鈣，但不是很嚴重，食物里還是含有很多礦物質。

據說很多實驗室會用某哈哈純凈水代替去離子水，效果不錯，雜質少離子少，價格比專門買去離子水便宜很多。
半導體從業者對晶元都有一定程度的了解，但我相信除了在晶圓廠的人外，很少有人對工藝流程有深入的了解。在這里我來給大家做一個科普。首先要做一些基本常識科普：半導體元件製造過程可分為前段製程（包括晶圓處理製程、晶圓針測製程）；還有後段（包括封裝、測試製程）。

零、概念理解 所謂晶圓處理製程，主要工作為在硅晶圓上製作電路與電子元件（如電晶體、電容體、邏輯閘等），為上述各製程中所需技術最復雜且資金投入最多的過程 ，以微處理器（Microprocessor）為例，其所需處理步驟可達數百道，而其所需加工機台先進且昂貴，動輒數千萬一台，其所需製造環境為為一溫度、濕度與 含塵（Particle）均需控制的無塵室（Clean-Room），雖然詳細的處理程序是隨著產品種類與所使用的技術有關；不過其基本處理步驟通常是晶圓先經過適 當的清洗（Cleaning）之後，接著進行氧化（Oxidation）及沈積，最後進行微影、蝕刻及離子植入等反覆步驟，以完成晶圓上電路的加工與製作。

晶圓針測製程則是在製造好晶圓之後，晶圓上即形成一格格的小格 ，我們稱之為晶方或是晶粒（Die），在一般情形下，同一片晶圓上皆製作相同的晶片，但是也有可能在同一片晶圓 上製作不同規格的產品；這些晶圓必須通過晶片允收測試，晶粒將會一一經過針測（Probe）儀器以測試其電氣特性， 而不合格的的晶粒將會被標上記號（Ink Dot），此程序即 稱之為晶圓針測製程（Wafer Probe）。然後晶圓將依晶粒 為單位分割成一粒粒獨立的晶粒。

IC封裝製程（Packaging）：利用塑膠或陶瓷包裝晶粒與配線以成集成電路；目的是為了製造出所生產的電路的保護層，避免電路受到機械性刮傷或是高溫破壞。而後段的測試則是對封裝好的晶元進行測試，以保證其良率。

㈤ 純凈水、去離子水和蒸餾水有什麼區別都各主要用於那些方面

超純水來：Ultrapure水 （超純水自），既將水中的導電介質幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水。電阻率大於18MΩ*cm，或接近18.3MΩ*cm極限值。

RO水：也稱純水。即通過反滲透膜過濾後的水，反滲透膜的孔徑一般為10A到100A之間，所以它能夠去除95%以上的離子態雜質。

蒸餾水：利用液體混合物中各組分揮發度的差別，使H2O汽化並隨之使蒸氣部分冷凝分離而得的水。

ddH2O：Distillation-Distillation H2O（雙蒸水）,經過2次蒸餾而得的水。

去離子水，把水裡的陰陽離子都除掉的水。主要通過RO膜和混床樹脂來把水中的離子除掉。但，現在也有不少人把RO水也叫去離子水，這是不準確的。

超純水是時下純度最高的水，其次是雙級反滲透水（雙級RO水）、雙蒸水（ddH2O）、純水（RO水）、蒸餾水。

超純水作為所有的實驗用水都可以，特別是高靈敏度ICP/MS、ppt級分析、同位素分析、疾控中心、葯檢所、質檢所、環監站、高校科研等標准實驗室及各種高端精密儀器用水。其他的純水及雙蒸水根據實際情況，在要求不是很嚴格的情況下也可以用的。