水處理edi設備規格

Ⅰ EDI連續電除鹽水處理設備的EDI設備進水指標要求

◎通常為單級反滲透或二級反滲透的滲透水
◎TEA（總可交換陰離子，以CaCO3計）：專<25ppm。
◎電導率：屬<40μS/cm
◎PH：6.0～9.0。當總硬度低於0.1ppm時，EDI最佳工作的pH范圍為8.0～9.0。
◎溫度： 5～35℃。
◎進水壓力：<4bar（60psi）。
◎硬度：（以CaCO3計）：<1.0ppm。
◎有機物（ TOC）：<0.5ppm。
◎氧化劑：Cl2<0.05ppm，O3<0.02ppm。
◎變價金屬： Fe<0.01ppm，Mn<0.02ppm。
◎H2S：<0.01ppm。
◎二氧化硅：<0.5ppm。
◎色度：<5APHA。
◎二氧化碳的總量：<10ppm
◎ SDI 15min：<1.0。

Ⅱ EDI超純水設備指的什麼

EDI超純水設備指的是用於制備超純水的EDI設備。EDI，又稱電去離子技術，它是將「專電滲析技術」和「離子屬交換技術」兩項技術結合起來的一種深度脫鹽技術，即在電滲析的淡水室隔板中填充離子交換樹脂，既保留了電滲析可連續脫鹽及離子交換樹脂可深度脫鹽的優點，同時又克服了電滲析濃差極化所造成的不良影響及離子交換樹脂所需要的酸鹼再生過程，既簡化了處理工藝又避免了環境污染。

Ⅲ 電子工業超純水設備的應用范圍

為了滿足電子行業用水需求，根據光電材料，液晶顯示屏生產，加工，清洗等所需使用超純水標准，而設計並生產的一套超純水設備。

edi水處理設備出水符合標准

超純水設備出水水質完全符合美國ASTM純水水質標准、我國電子工業部電子級水質技術標准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標准)、我國電子工業部高純水水質試行標准、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標准、國內外大規模集成電路水質標准。

edi超純水裝置-電子行業超純水系統

edi超純水系統工藝流程

預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)

應用領域

電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗

電子管生產、電子管陰極塗敷碳酸鹽配液

顯像管和陰極射線管生產、配料用純水

黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉澱、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水

液晶顯示器的生產、屏面需用純水清洗和用純水配液

晶體管生產中主要用於清洗矽片，另有少量用於葯液配製

集成電路生產中高純水清洗矽片

半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路

LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏

高品質顯像管、螢光粉生產

半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗

超純材料和超純化學試劑、超純化工材料

實驗室和中試車間

汽車、家電表面拋光處理

光電產品、其他高科技精微產品

Ⅳ 高純水設備高純水設備（EDI）概述

EDI高純水設備，作為反滲透設備後的二次除鹽設備，被廣泛應用於微電子工業、半導體工業、發電工業、制葯行業和實驗室等眾多領域。其能夠製取出高達10-18.2MΩ.CM的超純水，滿足了不同行業對高純水的高標准需求。

在微電子工業中，高純水是晶元製造過程中不可或缺的關鍵原料，直接關繫到產品的性能與穩定性。EDI設備通過電滲析原理，將離子交換膜與離子選擇性樹脂相結合，實現對水中的離子有效去除，從而提供純凈度極高的超純水。

半導體工業同樣對高純水有極高要求，從晶片清洗到製造過程中的化學反應，每一環節都離不開純凈的水。EDI設備的高效除鹽能力，確保了半導體製造過程中的純凈水質，對於提升產品性能、降低生產成本具有重要意義。

發電工業中，鍋爐補給水的純凈度直接影響到熱效率與設備壽命。EDI設備能夠去除水中的離子雜質，提供純凈的補給水，保證了發電系統的穩定運行與高效能。

在制葯行業中，高純水是生產高質量葯品的必要條件之一。從葯物配製到清洗設備，都需要純凈的水以保證葯品的純度和安全。EDI設備通過精細的除鹽過程，確保了制葯過程中使用的水質量，支持了葯品生產的高標准。

此外，EDI設備還被應用於食品飲料生產、實驗室研究等眾多領域。無論是為食品飲料提供純凈的生產用水，還是為科學研究提供高質量的實驗用水，EDI設備都能滿足不同應用場景對高純水的需求，為各行業提供了可靠的水處理解決方案。