超純水顆粒標准

Ⅰ 純水的標準是什麼是超純凈水的標準是什麼

純水和超純水一般都沒有統一的標准.是根據用戶的需求來規定.
一般意義上講純水至少應該是去離子水,即水中大部分陰陽離子是應該被去除的.細菌、懸浮物等的含量也應是相當低的.
目前水質要求最高的超純水是半導體行業,根據半導體晶元的大小和線徑的不同水質要求也不一樣,其超純水的水質指標如下：
電阻率大於18.2兆歐（25攝氏度）；TOC（總有機碳）小於1到10ppb,DO（溶解氧）小於1到10ppb；Particle（顆粒）：0.05微米小於200個/升；離子含量大部分是小於20到50ppt；細菌檢測：無.

Ⅱ 超純水各元素的含量

既然是超純水，那就不考慮其他雜質元素。就只考慮組成水的兩種元素。分別是氫元素和氧元素。然後由於水的化學式是H2O佔比就是1:8

Ⅲ 超純水的基本概況

超純水處理是指下列雜質含量極低的水：
①無機電離雜質，如 Ca2+、Mg2+、Na+、K+、Fe2+、Fe3+、Mn2+、Al3+、HCO-、CO32-、SO42-、Cl2、NO3-、NO2-、SiO32-、PO43-等；
②有機物，如烷基苯磺酸、油、有機鐵、有機鋁以及其他碳氫化合物等；
③顆粒，如塵埃、氧化鐵、鋁、膠體硅等；
④微生物，如細菌、浮游生物和藻類等；
⑤溶解氣體，如N2、O2、CO2、H2S等。超純水中電離雜質的含量用水的電阻率數值來衡量。理論上，純水 中只有H離子和OH離子參加導電。在25℃時超純水的電阻率為 18.3（兆歐·厘米），一般約為15～18（兆歐·厘米）。
超純水中有機物含量由測定有機物碳含量而定，電子工業超純水中規定含量為50～200微克/升，並要求直徑大於1微米的顆粒性物質每1毫升內含量為1～2個，微生物每1毫升為0～10個。現代採用預處理、電滲析、紫外線殺菌、反滲透、離子交換、超濾和各種膜過濾技術等，使超純水的電阻率在25℃時達到18（兆歐·厘米）。
依各種原水水質和用戶要求的不同，超純水的制備工藝大體可分為預處理、脫鹽和精處理三步。 超純水，主要工藝流程
⒈預處理----復床 ----混床---拋光樹脂
⒉預處理----反滲透---混床---拋光樹脂
⒊預處理----反滲透----CEDI膜塊----拋光樹脂
傳統超純水製取設備工藝流程：原水—多介質過濾器—活性炭過濾器—一級除鹽—混床—超純水
膜法超純水製取設備工藝流程：原水—超濾—反滲透—EDI—超純水
在膜法工藝中，超濾，微濾替代澄清，石英砂過濾器，活性炭過濾器，除去水中的懸浮物膠體和有機物，降低濁度，SDI，COD等，可以實現反滲透裝置對污水回用的安全，高效運行，以反滲透替代離子交換器脫鹽，進一步除去有機物，膠體，細菌等雜質，可以保證反滲透出水滿足EDI進水的要求，以EDI代替混床深度脫鹽，利用電而不是酸鹼對樹脂再生，避免了二次污染。 中國國家實驗室分析用水標准（GB6682-92）《分析實驗室用水規格和實驗方法》： 指標名稱 一級水 二級水 三級水 1級水>10MΩ 2級水>1MΩ 3級水>0.2MΩ PH值范圍（25℃） -- -- 5.0-7.5 比電阻MΩ.cm（25℃）> 10 1 0.2 電導率（25℃）≤ 0.1 1 5 可氧化物[以O計]mg/L -- 0.08 0.40 吸光度（254nm,1cm光程）≤ 0.001 0.01 -- 二氧化硅（mg/L） 0.02 0.05 -- 蒸發殘渣（mg/L） -- 1.0 2.0

Ⅳ 純水,超純水,純化水的水質一般以電阻率為多少 誰知道的說說,

純水的電阻率一般在10MΩ.CM以下,
10MΩ.cm \15MΩ.cm\18MΩ.CM等為超純水,超純水最高標准為18.25MΩ.CM.
純化水一般以電導率為單位,2010版葯典標准要求電導率 ≤2μS/cm (電阻率≥0.5 MΩ.CM)
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Ⅳ 中國電子行業超純水國家標准

超純水系統執行標准
GB/T11446.1-1997-中國電子行業超純水國家標准
歐盟電內子級超純水標准
美容國ASTM-1997E電子行業超純水標准
GMP葯典標准2010
其他標准均符合各行業清洗用水下屬內控用水標准

Ⅵ 純水的分級標准

實驗室純水可分為個常規等級：純水、去離子水、實驗室Ⅱ級純水和超純水。純水：純化水平最低，通常電導率在它可經由單一弱鹼性陰離子交換樹脂、反滲透或單次蒸餾製成。典型的應用包括玻璃器皿的清洗、高壓滅菌器、恆溫恆濕實驗箱和清洗機用水。去離子水：電導率通常在用含強陰離子交換樹脂的混床離子交換製成，但它有相對較高的有機物和細菌污染水平，能滿足多種需求，如清洗、制備分析標准樣、制備試劑和稀釋樣品等。 實驗室Ⅱ級純水：電導率總有機碳含量以及細菌含量有相關規定。其水質可適用於多種需求，從試劑制備和溶液稀釋，到為細胞培養配備營養液和微生物研究。這種純水可雙蒸而成，或整合和離子交換多種技術製成，也可以再結合吸附介質和燈。 超純水：這種級別的純水在電阻率、有機物含量、顆粒和細菌含量方面接近理論上的純度極限，通過離子交換、膜或蒸餾手段預純化，再經過核子級離子交換精純化得到超純水。通常超純水的電阻率可達18.2M，濾除甚至更小的顆粒。超純水適合多種精密分析實驗的需求，如高效液相色譜，離子色譜和離子捕獲－質譜。少熱源超純水適用於像真核細胞培養等生物應用，超濾技術通常用於去除大分子生物活性物質，如熱源以及無法檢測到的核酸酶和蛋
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Ⅶ 超純水水質標准

超純水是為了研製超純材料（半導體原件材料、納米精細陶瓷材料等）應用蒸餾、去離子化、反滲透技術或其它適當的超臨界精細技術生產出來的水，其電阻率大於18 MΩ*cm，或接近18.3 MΩ*cm極限值（25℃）。簡單得說就是幾乎去除氧和氫以外所有原子的水。這樣的水是一般工藝很難達到的程度，理論上可以採用二級反滲透再經過串聯的混合型交換樹脂柱對二次反滲水進行處理，但是交換樹脂的再生不便，質量難以保證。

制備
在原子光譜、高效液相色譜、超純物質分析、痕量物質等的某些實驗中，需要用超純水，超純水的制備如下：

（1）加入少量高錳酸鉀的水源，用玻璃蒸餾裝置進行二次蒸餾，再以全石英蒸餾器進行蒸餾，收集於石英容器中，可得超純水。

（2）使用強酸型陽離子和強鹼型陰離子交換樹脂柱的混合床或串聯柱。可充分除去水中的陽、陰離子，其電阻率達10 Q·cm的水，俗稱去離子水，再用全石英蒸餾器進行蒸餾，收集可得超純水。

應用
超純水可以在以下領域使用：

（1）電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、制葯、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領域。

（2）化工工藝用水、化學葯劑、化妝品等。

（3）單晶硅、半導體晶片切割製造、半導體晶元、半導體封裝 、引線櫃架、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件 、電容器潔凈產品及各種元器件等生產工藝。

（4）高壓變電器的清洗等

Ⅷ 實驗室超純水設備的水質參數

BasicMidHigh超純水電阻率 18.25MΩNaN 18.25MΩNaN 18.25MΩNaN 純水電導率 1-5μs/cm 1-5μs/cm 1-5μs/cm 總有機碳(TOC)(經DP——RO) <10ppb <5ppb <1-3ppb 細菌 <1CFU/ml <1CFU/ml <0.1CFU/ml 細菌內毒素版 - - <0.001EU/ml 顆粒物質（0.2μm）權 <1個/ml <1個/ml <1個/ml 無機物離子去除率 ≥99.5% ≥99.5% ≥99.5% 重金屬離子 ≤0.1ppb ≤0.1ppb ≤0.1ppb 硅去除率 >99% >99% >99%

Ⅸ 食品行業用超純水設備，EDI進水標准

水源：（二級）反滲透RO產水，電導率1-10us/cm，最大電導率≤25us/cm（NaC1）
PH值：版7.0-8.5（pH7.0-8.0之間EDI可有最佳電阻權率性能）
溫度：15℃--35℃，（EDI最佳溫度在25℃）
進水壓力（Dw）：0.15-0.4MPa
濃水進水壓力（Cns）：比Ds端壓力低0.06-0.1MPa（必須）
產水壓力（Dour）：0.05-0.20MPa
濃水出水壓力（Cour）：比Dor端壓力低0.05-0.1MPa（必須）
進水硬度：<0.5ppm（碳酸鈣計）進水有機物：TOC<0.5ppm
進水氧化劑：C12（活性）<0.03ppm，0。（臭氧）<0.02ppm，Ho.（羥基氧）<0.02ppm
進水重金屬離子：Fe、Mn、變價性金屬離子<0.01ppm
進水硅：Si0₂<0.5ppm（反滲透RO產水典型範圍是50-150ppb）
進水總CO2：<3ppm
進水顆粒度：<1um