超純水硅含量5微克l

① 實驗室純水機的超純水

純度極高的水。集成電路工業中用於半導體原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制備和矽片氧化用的水汽源等。此外，其他固態電子器件、厚膜和薄膜電路、印刷電路、真空管等的製作也都要使用超純水。超純水是指下列雜質含量極低的水：①無機電離雜質,如 Ca、Mg、Na、K、Fe、Fe、Mn、Al、HCO婣、CO婣、SO嬄、Cl、NO娛、NO婣、SiO婣、PO等；②有機物,如烷基苯磺酸、油、有機鐵、有機鋁以及其他碳氫化合物等；③顆粒,如塵埃、氧化鐵、鋁、膠體硅等；④微生物,如細菌、浮游生物和藻類等;⑤溶解氣體, 如N2、O2、CO2、H2S等。超純水中電離雜質的含量用水的電阻率數值來衡量。理論上,純水中只有H離子和OH離子參加導電。在25℃時超純水的電阻率為 18.3(兆歐·厘米)，一般約為15～18（兆歐·厘米）。
超純水中有機物含量由測定有機物碳含量而定，電子工業超純水中規定含量為50～200微克/升,並要求直徑大於1微米的顆粒性物質每1毫升內含量為1～2個，微生物每1毫升為0～10個。現代採用預處理、電滲析、紫外線殺菌、反滲透、離子交換、超濾和各種膜過濾技術等，使超純水的電阻率在25℃時達到18(兆歐·厘米)。
依各種原水水質和用戶要求的不同，超純水的制備工藝大體可分為預超純水處理、脫鹽和精處理三步。 預處理
包括砂濾、多介質過濾、軟化、加氯、調節pH、活性碳過濾、脫氣等。過濾可除去 1～20微米大小的顆粒，軟化和調節pH可防止反滲透膜結垢，加氯是殺菌。活性碳過濾是除去有機物和自由氯，脫氣是清除溶於水中的CO2等。

脫鹽
包括電滲析、反滲透、離子交換。電滲析的原理是在外加直流電場作用下利用陽離子和陰離子交換膜對離子選擇性透過，脫鹽率可達95%以上。反滲透是滲透現象的逆過程,在濃溶液上加壓力,使溶劑從濃溶液一側通過半透膜向稀溶液一側反向滲透，脫鹽可達98%，並能除去99%的細菌顆粒和溶解在水中的有機物。離子交換的原理是當水通過陽離子交換樹脂時，水中的陽離子被陽離子交換樹脂吸附，樹脂上可交換的陽離子如H離子被置換到水中，並和水中的陰離子結合成相應的無機酸，如超純水，這種含有無機酸的水，當下一步通過陰離子交換樹脂層時，水中的陰離子被陰離子交換樹脂吸附。

精處理
樹脂上可交換的陰離子如OH離子被置換到水中,並與水中的H離子結合成水，即超純水精處理 包括紫外線殺菌、終端膜過濾和超濾。紫外線殺菌是因生物體的核酸吸收紫外線光的能量而改變核酸自身結構,破壞核酸功能而使細菌死亡。殺菌最強的光譜波長為2600埃。各種膜過濾能除掉直徑大於 0.2微米的顆粒，但對於清除有機物則不如反滲透和超濾有效。超濾是把各種選擇性的分子分離。在超濾過程中，水在壓力下流過一個卷式或中空纖維膜棒。膜孔徑在10～200埃范圍內,薄膜厚度為0.1～0.5微米,附在一個中孔的纖維棒內壁上，超濾能除去細菌和0.05微米的粒子。

② 超純水是什麼同樣是水，它為什麼不能喝

超純水的概念出現在工業用水中，它的電阻為18M ω * cm（25℃）。它通常用於集成電路行業，用於清洗半導體原材料和設備，光刻膠掩模製備和矽片氧化水汽源。此外，超純水還用於製造其他固態電子產品、厚膜電路、薄膜電路、印刷電路和真空管。除了水分子（H2O）之外，水中幾乎沒有任何雜質、細菌、病毒、氯化二惡英和其他有機物。

以上就是小編針對問題做得詳細解讀，希望對大家有所幫助，如果還有什麼問題可以在評論區給我留言，大家可以多多和我評論，如果哪裡有不對的地方，大家也可以多多和我互動交流，如果大家喜歡作者，大家也可以關注我哦，您的點贊是對我最大的幫助，謝謝大家了。

③ 食品行業用超純水設備，EDI進水標准

水源：（二級）反滲透RO產水，電導率1-10us/cm，最大電導率≤25us/cm（NaC1）
PH值：版7.0-8.5（pH7.0-8.0之間EDI可有最佳電阻權率性能）
溫度：15℃--35℃，（EDI最佳溫度在25℃）
進水壓力（Dw）：0.15-0.4MPa
濃水進水壓力（Cns）：比Ds端壓力低0.06-0.1MPa（必須）
產水壓力（Dour）：0.05-0.20MPa
濃水出水壓力（Cour）：比Dor端壓力低0.05-0.1MPa（必須）
進水硬度：<0.5ppm（碳酸鈣計）進水有機物：TOC<0.5ppm
進水氧化劑：C12（活性）<0.03ppm，0。（臭氧）<0.02ppm，Ho.（羥基氧）<0.02ppm
進水重金屬離子：Fe、Mn、變價性金屬離子<0.01ppm
進水硅：Si0₂<0.5ppm（反滲透RO產水典型範圍是50-150ppb）
進水總CO2：<3ppm
進水顆粒度：<1um

④ 超純水中硅離子含量超標是什麼原因

可能是超純柱失效導致，硅離子是弱電解質，屬離子交換過程中不易去除物質，因此當超純柱交換能力下降時，這些離子容易超標

⑤ 地下水全硅和有效硅含量分別為多少

地下水全硅和有效硅含量分別為多少
硅鐵中硅的含量可以用儀器分析和化學分析手內段測定，用儀器分析我不在行，容你可以去熒光分析、原子吸收等板塊看看，或許能找到好的方法。
用化學分析方法，常用的有重量法、滴定法、光度法、比重法。重量法准確但分析步驟繁瑣，時間較長，需要4～8h甚至更長時間；滴定法分析時間1～2h，准確度堪與重量法相比；光度法（或者差示光度法）分析時間15～20min，准確度也較高，但是受操作者水平和標樣、器皿、葯品質量影響較大；比重法最快，只需要5min左右，用於一般的分析驗證可用，准確較低。
我個人推薦使用滴定法（氟硅酸鉀滴定法），採用抽濾操作，合理安排分析步驟，可以將分析時間縮短到40min以內，而且分析數據准確度較高，更為有利的是，除了比重法，這是葯品器材消耗最低的一種方法，也就是說分析成本最低，就是性價比最高。