純水系統eid裝置

❶ EDI系統在製取超純水中是怎樣工作的

在過去的二十多年，反滲透已經在工業上被接受，用來代替陽床和陰床，現在EDI系統也在精製領域代替了混床，與反滲透一起，EDI系統將提供一個連續運行的、無化學處理的系統。
EDI的工作流程：
EDI模塊(膜堆)是EDI工作的核心。一個簡單的EDI膜堆主要由兩個電性相反的電極和多個模塊單元對組成，一個膜單元對由一個填滿陽離子和陰離子交換樹脂的淡水室(D-室)、一個陽膜、一個濃水室(C-室)組成。EDI膜堆包含多個膜單元堆。在每個膜堆的內部有兩個帶有600V電壓的電極，這是通過每個膜堆必需的電壓。正極帶正電壓，負極帶負電壓，電流在正極和負極之間通過30個膜單元。

❷ 運行壓力對EDI超純水系統有哪些影響

EDI裝置運行的影響 EDI裝置運行是否穩定受到很多因素的影響，在整套超純水制備系統中EDI裝置起到核心的作用，所以如果EDI模塊運

❸ 如果給水不好會對超純水設備的EDI裝置產生什麼影響

給水裡的污染物會對除鹽組件有負面影響，增加維護量並降低膜組件的壽命。具體影響如下：
污染物對除鹽效果的影響
對EDI影響較大的污染物包括硬度(鈣、鎂)、有機物、固體懸浮物、變價金屬離子(鐵、錳)、氧化劑(氯，臭氧)和二氧化碳(CO2)以及細菌。
設計RO/EDI系統時應在EDI的預處理過程除掉這些污染物。給水中這些污染物的濃度限制見3.2節。在預處理中降低這些污染物的濃度可以提高EDI性能。其它有關EDI設計策略將在本手冊其它部分詳述。
氯和臭氧會氧化離子交換樹脂和離子交換膜，引起EDI組件功能減低。氧化還會使TOC含量明顯增加，污染離子交換樹脂和膜，降低離子遷移速度。另外，氧化作用使得樹脂破裂,通過組件的壓力損失將增加。鐵和其它的變價金屬離子可對樹脂氧化起催化作用，永久地降低樹脂和膜
的性能。
硬度能在反滲透和EDI單元中引起結垢。結垢一般在濃水室膜的表面發生，該處pH值較高。此時，濃水入水和出水間的壓力差增加，電流量降低。坎貝爾?組件設計採取了避免結垢的措施。不過，使入水硬度降到最小將會延長清洗周期並且提高EDI系統水的利用率。懸浮物和膠體
會引起膜和樹脂的污染和堵塞，樹脂間隙的堵塞導致EDI組件的壓力損失增加。
有機物被吸引到樹脂和膜的表面導致其被污染，使得被污染的膜和樹脂遷移離子的效率降低，膜堆電阻將增加。
二氧化碳有兩種效果。首先，CO32-和Ca2+、Mg2+形成碳酸鹽類結垢，這種垢的形成與給水的離子濃度和pH有關。其次，由於CO2的電荷與pH值有關，而其被RO和EDI的去除都依賴於其電荷，因此它的去除效率是變化的。即使較低的CO2都能顯著地降低產品水的電阻率。

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❹ 請問超純水設備中EDI系統是什麼

EDI電除鹽純水設備供應商，EDI電除鹽純水設備技術概述
電除鹽將離子交換樹脂填充在陰、陽離子交換膜之間形成EDI單元,又在這個單元兩邊設置陰、陽電極,在直流電作用下,將離子從其給水(通常是反滲透純水)中進一步清除離子交換膜和離子交換樹脂的工作原理相近,可以使特定的離子遷移。陰離子交換膜只允許陰離子透過,不允許陽離子透過;而陽膜只允許陽離子透過,不允許陰離子透過。
在EDI組件中將一定數量的EDI單元羅列在一起,使陰離子交換膜和陽離子交換膜交替排列。並使用網狀物將每個EDI單隔開,形成濃水室。EDI單元中間為淡水室。在給定的直流電的推動下,給水通過淡水室水中的離子穿過高子交換膜進入濃水室被去除而成為除鹽水;通過濃水將離子帶出系統，成為濃水。
EDI電除鹽純水設備組件將給水分成三股獨立的水流
1、純水(最高利用率為99%)
2、濃水(5-10%,可以用於RO給水
3、極水(1%,排放)
極水先經過陽極流入陰極水可從電極區排除電解產生的氯氣、氧氣和氫氣體。
EDI電除鹽純水設備過程細節
一般城市水源中存在鈉、鈣、鎂、氯化物、硝酸鹽、碳酸氫鹽、二氧化硅等溶解物。這此化合物由帶負電荷的陰高子和帶正電荷的陽離子組成。通過反滲透(RO)的處理,98%以上的離子可被去除。另外,原水中也可能包括其它微量元素、溶解的氣體(例如CO2)和一些弱電解質(例如硼,二氧化硅),這些雜質在工業除鹽水中也必須被除掉。RO純水(EDI給水)電阻率的一般范圍是0.05-0.25MΩcm,即電導率的范圍是20-4US/cm。根據應用的情況,去離子水電阻率2MΩcm。EDI除鹽過程。將水中離子和離子交換樹用脂中的氫氧根離子或氫離子交換,然後使這些離子遷移進入到濃水中。這就是EDI電除鹽純水設備除鹽過程。

❺ EDI純水到底是什麼東西啊

EDI純水應該是使用EDI模塊製成的純水。

EDI制備純水的原理：

EDI連續電除鹽水內處理設備（電解式連續去容離子）為模塊式設備，可根據需要任意組合，該系統不需要停機再生，無需酸鹼，因此廢水排放問題也得到解決，更符合環保要求。可將水的電阻值由0.05-

0.1MQ/cM提升至15-18MQ/cM。EDI裝置現已應用在半導體、電廠、電子、制葯、實驗室等領域制備高純水；陰陽離子及混床離子交換水處理設備是利用陰陽離子樹脂與水中溶解性鹽類離子進行離子交換的水處理技術；

根據最終去除水中陰陽離子及混床離子交換除鹽水系統的交換特性，可將系統分為：單床式離子交換除鹽系統、雙床式離子交換除鹽系統和混床式離子交換除鹽系統。

❻ 超純水設備中EDI裝置的常見故障有哪些，怎麼診斷呢

超純水設備中EDI裝置的常見故障及排除如下圖更多詳細的解決方法請登錄科瑞環保查看

❼ EDI工業高純水裝置操作需要注意哪些問題

一般來講EDI高純水設備就是EDI純水設備，選用到合適工業高純水設備以後，為了能夠使設備能夠長期穩定的運行，運行之前操作注意事項以及日後日常維護都必須認真對待，本文針對EDI工業高純水設備操作注意事項專門介紹。

1. 在將進水管道連接到工業超純水系統
EDI摸塊之前，用經過過濾的水徹底沖洗管路然後排放。進水管路未經過沖洗會使安裝管路碎片進入摸塊會導致無法挽回的損失。

2. 用1—2分鍾時間緩慢對模塊增壓以避免水錘造成嚴重損壞。切勿使模塊壓力超過允許范圍。

3. 確保已經有足夠的極水流量，淡水流量，濃水循環流量和濃水排放流量，並確認所有安全保護的聯動裝置正常工作。

4. 檢驗沒有氯或其他氧化劑進入模塊，進水指標必須符合進水的要求。

5.
如果在進水硬度>0.5PPm(CaCO3計)或硅>0.5PPm下運行,或者其它水質指標不符合進水要求而不採取特殊的防範措施,模塊可能會損壞.可能需要採用定期用酸清洗或濃水管路軟化的方法.請與本公司聯系。

6. 對於有加鹽泵的系統,鹽的質量必須加以仔細檢查.鹽的成分必須符合用戶手冊上所列明的指標,否則長期使用會對模塊造成無法挽回的損壞。

7. 塑料的管件和介面請小心對待。

❽ 電子工業超純水設備的應用范圍

為了滿足電子行業用水需求，根據光電材料，液晶顯示屏生產，加工，清洗等所需使用超純水標准，而設計並生產的一套超純水設備。

edi水處理設備出水符合標准

超純水設備出水水質完全符合美國ASTM純水水質標准、我國電子工業部電子級水質技術標准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標准)、我國電子工業部高純水水質試行標准、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標准、國內外大規模集成電路水質標准。

edi超純水裝置-電子行業超純水系統

edi超純水系統工藝流程

預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)

應用領域

電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗

電子管生產、電子管陰極塗敷碳酸鹽配液

顯像管和陰極射線管生產、配料用純水

黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉澱、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水

液晶顯示器的生產、屏面需用純水清洗和用純水配液

晶體管生產中主要用於清洗矽片，另有少量用於葯液配製

集成電路生產中高純水清洗矽片

半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路

LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏

高品質顯像管、螢光粉生產

半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗

超純材料和超純化學試劑、超純化工材料

實驗室和中試車間

汽車、家電表面拋光處理

光電產品、其他高科技精微產品

❾ 有人說在水處理行業中、有一種設施叫EDI，請問它對設備起到什麼作用

EDI技術可以用來代替傳統的混床離子交換樹脂來製取純水或超純水，與混專床不同的是EDI淡水室隔屬板中填充的離子交換樹脂在工作時能夠自動獲得再生而不會飽和，不需要化學再生，從而使產水程度及出水水質非常穩定。除此之外，EDI技術還具有很多優點，比如可以不間斷的出水，再生過程無需酸鹼試劑，並且可以做到無人看管的全自動運行裝置。