❶ 半导体芯片制造废水处理方法
芯片制造生产工艺复杂，包括硅片清洗、化学气相沉积、刻蚀等工序反复交专叉，生产中使属用了大量的化学试剂如HF、H2SO4、NH3・H2O等。
所以一般芯片制造废水处理系统有含氨废水处理系统+含氟废水处理系统+CMP研磨废水处理系统。具体方案可以咨询泽润环境科技（广东）有限公司网页链接
❷ 电子行业环评技术要点
电子行业环评技术要点
电子行业环评工作应在工程分析的基础上，重点关注项目产业政策及规划符合性、污染物分析、环境风险和行业排放标准，以便为环境管理提供科学依据，争取做到环保、经济、社会等效益的有机统一。下面整理了一些电子行业环评技术要点，欢迎大家阅读！
1 产业政策和规划符合性
电子行业涉及的范围十分广泛，包括半导体器件生产、电子真空与光电子器件生产、电子元件生产、电子专用材料生产和电子终端产品装配等。产业政策和宏观规划符合性方面，国家层面应关注《产业结构调整指导目录(2011 年本)》(2013 年修订)、《外商投资产业指导目录》(2011 年修订)、《电子信息制造业“十二五”发展规划》(2012 年)、《集成电路产业“十二五”发展规划》(2012年)、《电子基础材料和关键元器件“十二五”规划》(2012 年)、《电子专用设备仪器“十二五”规划》(2012 年)等，另外还需关注项目所在区域的产业发展规划、环境保护规划、环境功能区划、城市总体规划及资源开发利用规划等。
2 行业主要污染物
2.1 水污染物
集成电路制造业、液晶显示器制造业、印制电路板制造业等都是电子工业中的废水排放大户。电子行业产生的废水主要有含氨废水、含氟/ 磷废水、含铜废水、含重金属废水、含氰废水、有机废水、酸碱废水等，水污染物主要有pH、SS、COD、NH3- N、石油类、色度、氰化物、氟化物、磷酸盐、重金属等。COD 和NH3- N 为国家实行总量控制的水污染物。电子产品制造的.电镀、沉铜、酸洗、蚀刻等工艺排放的废水中含有第一类污染物(总砷、总铅、总铬、六价铬、总镍、总镉和总银)以及铜、锌等重金属污染物。
2.2 大气污染物
电子清洗、感光成像、表面涂层等工艺会产生有机废气(苯类、VOCs)，酸洗磷化、表面处理、蚀刻等工序产生酸性废气(HCl、硫酸雾、氮氧化物等)和碱性废气(NH3)，半导体器件制造(如集成电路、分立器件)的离子注入掺杂、化学气相沉积、金属化等工序产生有毒废气(如氟化物、BCl3、HBr 等)。
2.3 固体废物
电子产品生产过程产生的危险废物包括废酸、废碱、废有机溶剂等。如某12 英寸集成电路芯片制造项目危险废物年产生量28642t，某TFT- LCD 项目危险废物年产生量26356t[2]。这些危险废物若处置不当而流失，其中的重金属、难降解有机物就会对土壤、地下水和大气造成严重污染。
2.4 噪声
电子行业的噪声源主要来自辅助动力设备及配套工程，如动力站、冷却塔等，若其设置或处理措施不当将产生噪声扰民问题。
2.5 环境风险
电子产品生产过程中使用多种具腐蚀性、毒性、易燃性、氧化性的化学品和有机溶剂，此外还可能有多种毒性、腐蚀性气体，存在“储罐/ 槽”、“输送管道”意外泄漏和操作不当导致的事故排放等潜在环境风险，并且可能具有复合化学污染的潜在危险性。
3 行业环保标准
目前，电子工业企业执行《大气污染物综合排放标准》(GB16297- 1996)、《污水综合排放标准》(GB8978- 1996)、《电镀污染物排放标准》(GB 21900- 2008)、《电子玻璃工业大气污染物排放标准》(GB 29495- 2013)、《电池工业污染物排放标准》(GB30484- 2013)等。对于涉及印制电路板、电镀工艺等已发布有清洁生产标准：《清洁生产标准电镀行业》(HJ/T 314- 2006)和《清洁生产标准印制电路板制造业》(HJ/T 450- 2008)。
❸ 国家污水排放标准 最新
工业废水（instrial wastewater ）包括生产废水、生产污水及冷却水，是指工业生产过程中产生的废水和废液，其中含有随水流失的工业生产用料、中间产物、副产品以及生产过程中产生的污染物。工业废水种类繁多，成分复杂。例如电解盐工业废水中含有汞，重金属冶炼工业废水含铅、镉等各种金属，电镀工业废水中含氰化物和铬等各种重金属，石油炼制工业废水中含酚，农药制造工业废水中含各种农药等。由于工业废水中常含有多种有毒物质，污染环境对人类健康有很大危害，因此要开发综合利用，化害为利，并根据废水中污染物成分和浓度，采取相应的净化措施进行处置后，才可排放。
国家 《污水综合排放标准》涵盖了各类工业污水排放指标，概括了《污水综合排放标准》2020年《污水综合排放标准》2019年《污水综合排放标准》2018年等最新排放标准。
第一种是按工业废水中所含主要污染物的化学性质分类，含无机污染物为主的为无机废水，含有机污染物为主的为有机废水。例如电镀废水和矿物加工过程的废水是无机废水，食品或石油加工过程的废水是有机废水，印染行业生产过程中的是混合废水，不同的行业排除的废水含有的成分不一样。
第二种是按工业企业的产品和加工对象分类，如冶金废水、造纸废水、炼焦煤气废水、金属酸洗废水、化学肥料废水、纺织印染废水、染料废水、制革废水、农药废水、电站废水等。
第三种是按废水中所含污染物的主要成分分类，如酸性废水、碱性废水、含氰废水、含铬废水、含镉废水、含汞废水、含酚废水、含醛废水、含油废水、含硫废水、含有机磷废水和放射性废水等。
前两种分类法不涉及废水中所含污染物的主要成分，也不能表明废水的危害性。
国内所有工业行业废水分类如下：
冶金废水、造纸废水、焦化废水、金属酸洗废水、化学肥料废水、印染废水、纺织废水、染料废水、制革废水、农药废水、电站废水、煤化工废水、化工废水、制药废水、石化废水、炼油厂废水、油田废水、食品废水、养殖废水、屠宰废水、电镀废水、印染废水、医药废水、机械加工废水、化纤废水、煤矿废水、酿酒废水、制革废水、矿山废水、选矿废水、海水淡化、循环水处理、钢铁厂废水、木材加工废水、机加工废水、电子废水、半导体废水、玻璃加工废水、乳化液废水、铝加工废水、金属加工废水、焦化废水、纺织废水、玻纤废水、建材废水、陶瓷废水、橡胶废水、光伏废水、垃圾渗滤液废水、餐饮废水、生活污水、清洗废水、医疗污水、医院废水、船舶废水、养殖废水、石油废水、淀粉废水、电厂脱硫废水、中水回用等工厂废水。
酸性废水、碱性废水、含盐废水、高盐废水、含氰废水、含铬废水、含镉废水、含汞废水、含酚废水、含醛废水、含油废水、含硫废水、有机磷废水、放射性废水
❹ 污水处理设备可以用在哪些行业
污水处来理设备的应用范自围：
1、适用于住宅小区、村庄、村镇、办公楼、商场、宾馆、饭店、疗养院、机关、学校、部队、医院、高速公路、铁路、工厂、矿山、旅游景区等。
2、屠宰、水产品加工、食品等中小型规模工业有机废水的处理。
3、化工材料的生产和加工过程所用的溶剂及清洗过程。
4、超纯材料和超纯化学试剂。
5、实验室和中试车间。
6、电子半导体、集成电路板上用到的化工材料。
7、石英、硅材料生产、加工、提纯。
8、高纯墨水、传真打印机中的喷墨、纳米墨水。
❺ 半导体行业用纯水机吗
不需要，半导体行业用的不是纯水机，而是一种专门给半导体行业配备的水机，而不是纯水机
❻ 氟化物排放标准
疫情当下,但环保管控依旧严格,接下来我们一起盘点一下含氟废水的一些排放标准。
1.《污水综合排放标准》(GB8978-1996)中,氟化物≤10mg/L;
2.江苏省
(1)江苏省的《化工水污染物排放限携冲值》(DB32/939-2020)中要求氟化物≤6mg/L;
(2)江苏省制定了江苏城镇污水厂排放新标,氟化物排放限值降至1.5 mg/L。
(3)江苏省半导体行业污染物排放标准:直接排放限值:≤10mg/L特别排放限值:≤8mg/L 间接排放限值:≤15mg/L
3.我国《生活饮用水卫生标准》( GB 5049-2006) 规定集中供水出厂水氟化物浓度≤1.0mg/L;《地表水环境质量标准》( GB 3838-2002)中明确I-III类氟化物≤1.0mg/L,IV-V类氟化物≤1.5mg/L;
4.流域水污染排放标准
(1)南四湖东平湖流域:重点保护区域≤2mg/L,一般保护区域≤贺键3mg/L。
(2)沂沐河流域:氟化物排放限值≤2mg/L。
(3)小清河流域:重点保护区域≤2mg/L,一般保护区域≤3mg/L。
(4)海河流域:重点保护区域≤2mg/L,一般保护区域≤3mg/L。
(5)半岛流域:重点保辩拍歼护区域≤2mg/L,一般保护区域≤3mg/L。
从以上政策我们可以看出来,有的政策甚至要求氟化物浓度≤1.0mg/L,面对如此严格的标准传统的除氟方法根本满足这个需求,需要专业的除氟剂药剂进行处理。这就到了环瑞生态除氟剂大显神通的时候了。
❼ 半导体为什么会出水
会半导体散热器持续工作十分钟之后就会有冷凝水，需要进行排水作业。通过金属导流片连接，当电流由N通过P时，电场使N中的电子和P中的空穴反向流动。
半导体工业就是通过在本征半导体（比如纯硅）里掺杂质来调节半导体材料导电性和其它物理化学性能的，极微量杂质就会剧烈改变半导体材料的性能，所以整个生产过程必须用去离子水，以减少非必要杂质的引入。
半导体污水分为三大类：含氟废水、有机废水和金属离子废水。为了除去污水中COD、氨氮、总氮等有机污染物，一般会采用好氧法和缺氧厌氧法相结合的方法进行处理。
片144W，快赶上主板+CPU+内存+硬盘的功率了。我以前是这样用的，给半导体（我用的12V5A）通5V电压，加大散热器和风机功率。效果也不错，对了制冷片瓷片间隙最好用热熔胶或密封胶封牢，PN节就不会进水了。
❽ 如何处理半导体(LED)废水
随着单个LED光通亮和发光效率的提高，即将进入普通室内照明、台灯、笔记本电脑背光源、大尺寸LED显示器背光源等市场广阔。 LED生产过程中绝大部分废水产生在原材料和芯片制造过程中，分为拉晶、切磨抛和芯片制造，主要含一般酸碱废水、含氟废水、有机废水、氨氮废水等几种水质，在黄绿光晶片制造过程中还会有含砷废水排出。 2、LED芯片加工废水特点：主要污染物为LED芯片生产过程中排放的大量有机废水和酸碱废水，另有少量含氟废水。有机废水主要污染物为醇、乙醇、双氧水;酸碱废水中主要污染物为无机酸、碱等。 3、LED切磨抛废水特点：主要污染物为大量清洗废水，主要成分为硅胶、弱酸、硫酸、盐酸、研磨砂等。 4、酸碱废水排放：主要包括工艺酸碱废水、废气洗涤塔废水、纯水站酸碱再生废水，采用化学中和法处理。 含砷废水：主要来自背面减薄及划片/分割工序，采用化学沉淀法处理。 一般废水：排放方式均为连续排放，主要指纯水站RO浓缩废水主要污染物为无机盐类，采用生化法去除。 含氟废水：主要清洗废水中含有HF，使用混凝沉淀去除。 高氨氮废水：使用折点加氯法，将废水中的氨氮氧化成N2。投加过量氯或次氯酸钠，使废水中氨完全氧化为N2的方法，称为折点氯化法，其反应可表示为： NH4+十1.5HOCl→0.5N2十1.5H2O十2.5H+十1.5Cl-5、案例： 5.1、LED生产加工之蓝宝石拉晶废水 污水水质、水量： 水量：480t/d;20t/h(24小时连续)废水水质：PH值5.0-10.0无量纲出水要求：达到国家废水二级排放标准(<污水综合排放标准(GB8978-1996)表4标准)的要求。具体指标为：处理工艺酸碱废水进入酸碱废水调节池后与投加的药剂进行中和反应，达到工艺要求后进入有机废水调节池。人工收集到含氟废水收集池，加药剂进行沉淀。上清液达标排放，污泥排入污泥浓缩池处理。 利用有机废水调节池的池容增加生化处理功能，向池内投加厌氧性水解菌，池内配置穿孔水力搅拌系统以加强传质，为后继处理单元提供部分水解处理服务。 废水经过调节后经泵提升进入进入厌氧水解池。 厌氧水解池采用上向流布水形式，利用循环管网系统加强池底部的混流强度，提高反应器内的传质效果。利用微生物的水解酸化作用将废水中难降解的大分子有机物转化为易降解的小分子有机物，将复杂的有机物转变成简单的有机物，提高废水的可生化性，有利于后续的好氧生化处理。出水自流进入接触氧化池。接触氧化池的混合液进入二沉池进行泥水沉淀分离。为保证COD排放达标的处理要求，将二沉池出水导入BAF进行处理。生物曝气滤池的出水流入清水池，为生物曝气滤池提供滤料的反冲洗水，其余的清水达标排放。 5.2、LED生产加工之切磨抛废水 污水水质、水量： 水量：432t/d;18t/h(24小时连续)废水水质：1PH值5.0-10.0无量纲出水要求：达到国家废水二级排放标准(<污水综合排放标准(GB8978-1996)表4标准)的要求。具体指标为：处理工艺根据业主废水的水质情况，在吸取以往同类废水处理装置设计的成功经验和一些同类废水处理装置的实际运行经验，设计污水处理主体工艺路线如下： 格栅池+清洗废水调节池+反应池+物化沉淀池达标排放 污泥处理主体工艺采用工艺路线为： 污泥浓缩+污泥调理+板框压滤泥饼外运 5.3、LED生产加工之芯片废水 污水水质、水量： 有机废水水量：19.4t/h(24小时连续)水质：PH值6.0-8.0无量纲 酸碱废水水量：70t/h(24小时连续)水质：PH值4.0-11.0无量纲 含氟废水水量：4t/h(24小时连续)水质：PH值2.0-4.0无量纲 氟化物≤200mg/L处理工艺酸碱废水进入酸碱废水调节池后与投加的药剂进行中和反应，达到工艺要求后达标排放。含氟废水收集调节后与投加的药剂反应生成不溶性氟化物沉淀，上清液达标排放。