Ⅰ 反渗透结垢的判断和处理
摘要 首先，反渗透设备在运行过程中，低压冲洗产生的压力会产生淡水，两侧水的浓度会加深，同时也会导致盐的浓度加深，盐中含有大量的可沉淀物质，久而久之，就会出现结垢现象。其次，阻垢剂装置漏药较为严重，极有可能影响到反渗透阻垢剂的加药用量，在加药过程中，药剂不均匀也是导致反渗透膜结垢的重要原因。最后，设备停机的过程中没有及时进行冲洗也会导致反渗透膜结垢。
Ⅱ 反渗透膜清洗剂配方
反渗透膜清洗几种常用配方：
反渗透膜清洗配方剂1：
1%-2%柠檬酸溶液或0.4%HCl溶液，适用于铁污染及碳酸盐结晶污堵。
反渗透膜清洗配方剂2
0.2%NaClO+0.1%NaOH溶液，适用于清洗由有机物及活性生物引起的膜组件的污染。
反渗透膜清洗配方剂3
0.3%H2O2+0.3%NaOH溶液，适用于清洗由glutamic acid发酵液引起的膜组件的污染。
反渗透膜清洗配方剂4
1%甲醛溶液，适用于细菌污染的超滤；
反渗透膜清洗配方剂5
HNO3的0.5%水溶液，适用于电泳漆处理过程中磷酸铅对膜组件造成的污堵（此清洗必须在其他常规化学清洗之后进行。）；
反渗透膜清洗配方剂6
20%的Na2CO3、7%的Na3PO4、3%的NaOH、0.5%的EDTA，主要用于胶体污染物造成的膜污染；
反渗透膜清洗配方剂7
9%的十二烷基苯磺酸钠、9%的表面活性剂、0.4%的NaOH、0.15的无水碳酸钠、11%的磷酸钠、10%的硅酸钠，清洗时需注意pH的控制，有些膜不适用于高pH清洗液的清洗，要慎重选择，主要用于清洗含油废水所造成的膜污染。
反渗透膜清洗配方剂8
3%的H3PO4、0.5%的EDTA-2Na、0.5%的LBOW专用清洗剂，主要用于清洗蛋白质和油脂污染物造成的污染。
反渗透膜清洗配方剂9
20%的H2SO4，主要用于硅垢结晶造成的污染。
RO膜元件是反渗透设备系统中重要的部分，其日常维护的好坏直接影响到系统出水水质的好坏，这里对于反渗透膜的清洗方法加以概述，系统说明反渗透膜在运行中可能出现的污染物以及相对应的清洗方法。
Ⅲ 反渗透膜如何清洗 用什么药液
酸洗！加柠檬酸PH值2左右！我这里的反渗透是2×100的！所以加药量比较大！碱洗！加EDTA,十二烷基！
Ⅳ 反渗透膜的清洗步骤
物理清洗方法：
1.停止装置
慢慢的把操作压力降低，逐步停止装置。，因为如果一下子停止装置会导致装置中的压力快速的下降形成水锤，冲击对管道、压力容器以及膜元件造成一定的损伤。
2.调节阀门
首先把浓溶液的水阀门全部打开；之后把进水的阀门关闭；接着把产水阀门打开到最大。如果把关闭阀门顺序搞错了，就可能会产生背压对压力容器中的后端的膜元件造成械性的损害
3.清洗作业
首先把低压清洗泵打开；然后再慢慢的把进水阀打开，这时候一定要注意观察浓缩水流量计的流量；调节进水阀门一直调到流量和压力都达到预先设计好的值；最后在10-15分钟后慢慢地关闭进水阀门，停止进水泵。
化学清洗方法：
化学清洗方法是利用化学药剂进行清洗的，针对不同的污染物要选用不同的化学药剂，下面也会给大家介绍什么污染物选用什么化学药剂。
反渗透膜清洗化学药剂选用图
柠檬酸清洗
在采用柠檬酸溶液进行清洗之前，先用软化水或者 RO 产品水对膜元件进行冲洗。向清洗水箱中添加柠檬酸（白色粉末），对溶液进行连续的搅动，使柠檬酸迅速和充分溶解，使柠檬酸溶液浓度达到 2%（质量百分比）。在添加药品之前，将大块的药品敲碎，以避免对搅拌器和水泵造成损坏。
十二烷基磺酸钠(Na-SDS)清洗剂清洗
配制 0.025%（质量百分比浓度）十二烷基磺酸钠和 0.1%（质量百分比浓度）NaOH 溶液，控制溶液温度小于 30℃，其 pH 控制范围在 pH12 以内。此种方法最好作为系统的第一步化学清洗。
六聚偏磷酸钠+盐酸的清洗
向水中添加 SHMP（白色粉末），小批量逐步添加，以达到 1.0%浓度（质量百分比）溶液。使用搅拌器连续地搅拌溶液，使化学药品均匀混合。
缓慢的将盐酸（HCl）添加到 SHMP 溶液中，直到溶液的 pH 值达到 2。盐酸（HCl）是一种腐蚀性的无机酸，在处理盐酸时要注意安全规则。
溶液的 pH 值应该接近，但是要大于 2。 如果在清洗期间溶液的 pH 值升高超过 3.5，则要添加盐酸（HCl）直到 pH 值恰好大于 2。如果 pH 值降低到小于 2，使用 NaOH 进行调节。NaOH 是一种腐蚀性无机碱，在使用时要注意安全规则。
如果看完还是不怎么清洗的话这时有详细的介绍网页链接
Ⅳ 反渗透膜清洗有哪些方法怎么才能知道反渗透膜需要清洗
在正常运行一段时间后，反渗透膜元件会受到在给水中可能存在的悬浮物质或难溶物质的污染，这些污染物中最常见的为碳酸钙垢、硫酸钙垢、金属氧化物垢、硅沉积物及有机或生物沉积物 。
Ⅵ RO反渗透系统常见污染除垢方法有哪些
需要的，反渗透膜的清洗是很重要的，对反渗透膜的使用寿命有很大的影响专。对于设备中反渗属透膜主要是用来将原水中的污染物质尽最大可能的去除掉，但是原水中的杂质会积留在反渗透膜的表面，导致反渗透膜的堵塞，一直污染。对于反渗透膜的清洗主要是通过化学方法进行处理，它的清洗剂一般采用的是酸碱剂，PH一般在2-12之间，对于清洗剂的最佳使用温度应该是45摄氏度，而且污染物有的甚至是粘泥类的，随着时间的积累还会被压缩增厚，清洗起来难度很大。对于反渗透膜的清洗过程主要是循环清洗，把浓水的出水管道直接放在清洗药箱中。
Ⅶ 反渗透RO膜及清洗方法怎样的预处理才能使RO膜的寿命达到最大海德能ESPA2-4040大概多久换一次
注 1：在任何情况下不要让带有游离氯的水与复合膜元件接触，如果发生这种接触，将会造成膜元件性能下降，而且再也无法恢复其性能，在管路或设备杀菌之后，应确保送往反渗透膜元件的给水中无游离氯时，应通过化验来确证，应使用酸溶液来中和残余氯，并确保足够的接触时间以保证反应完全。
注 2：在反渗透膜元件担保期内，建议每次渗透膜清洗应与公司协商后进行，至少在第一次清洗时，公司的现场服务人员应在现场。
注 3：在清洗溶液中应避免使用阳离子表面活性剂，因为如果使用可能会造成膜元件的不可逆转的污染。
1. 反渗透膜元件的污染物
在正常运行一段时间后，反渗透膜元个会受到在给水中可能存在的悬浮物质或难溶物质的污染，这些污染物中最常见的为碳酸钙垢、硫酸钙垢、金属氧化物垢、硅沉积物及有机或生物沉积物。
污染物的性质及污染速度与给水条件有关，污染是慢慢发展的，如果不早期采取措施，污染将会在相对短的时间内损坏膜元件的性能。定期检测系统整体性能是确认膜元件发生污染的一个好方法，不同的污染物会对膜元件性能造成不同程度的损害。
表 1 列出了常见污染物对膜性能的影响。
2. 污染物的去除
污染物的去除可通过化学清洗和物理冲洗来实现，有时亦可通过改变运行条件来实现，作为一般的原则，当下列情形之一发生时应进行清洗。
2.1 在正常压力下如产品水流量降至正常值的 10 ～ 15% 。
2.2 为了维持正常的产品水流量，经温度校正后的给水压力增加了 10 ～ 15% 。
2.3 产品水质降低 10 ～ 15% 。盐透过率增加 10 ～ 15% 。
2.4 使用压力增加 10 ～ 15%
2.5 RO 各段间的压差增加明显 ( 也许没有仪表来监测这一迹象 ) 。
3. 常见污染物及其去除方法：
3.1 碳酸钙垢
在阻垢剂添加系统出现故障时或加酸系统出现而导致给水 PH 升高，那么碳酸钙就有可能沉积出来，应尽早发现碳酸钙垢沉淀的发生，以防止生长的晶体对膜表面产生损伤，如早期发现碳酸钙垢，可以用降低给水PH值至3.0 ～ 5.0之间运行 1 ～ 2 小时的方法去除。对沉淀时间更长的碳酸钙垢，则应采用RT-818A清洗液进行循环清洗或通宵浸泡。
注：应确保任何清洗液的 PH值不要低于 2.0 ，杯则可能会 RO 膜元件造成损害，特别是在温度较高时更应注意，最高的 PH 不应高于 11.0 。查使用氨水来提高 PH ，使用硫酸或盐酸来降低 PH 值。
3.2 硫酸钙垢
RT-818B清洗剂是将硫酸钙垢从反渗透膜表面去除掉的最佳方法。
3.3 金属氧化物垢
可以使用上面所述的去除碳酸钙垢的方法，很容易地去除沉积下来的氢氧化物 ( 例如氢氧化铁 ) 。
3.4 硅垢
对于不是与金属化物或有机物共生的硅垢，一般只有通过专门的清洗方法才能将他们去除，有关的详细方法请与公司联系。
3.5 有机沉积物
有机沉积物 ( 例如微生物粘泥或霉斑 ) 可以使用RT-818C 清洗剂去除，为了防止再繁殖，可使用经海德能公司认可的杀菌溶液在系统中循环、浸泡，一般需较长时间浸泡才能有效，如反渗透装置停用三天时，最好采用消毒处理，请与公司会商以确定适宜的杀菌剂。
3.6 清洗液
清洗反渗透膜元件时建议采用RT-818系列RO膜系统清洗剂。确定清洗前对污染物进行化学分析十分重要的，对分析结果的详细分析比较，可保证选择最佳的清洗剂及清洗方法，应记录每次清洗时清洗方法及获得的清洗效果，为在特定给水条件下，找出最佳的清洗方法提供依据。
对于无机污染物建议使用RT-818A 。对于硫酸钙及有机物污染建议使用RT-818B 。对于严重有机物污染建议使用RT-818C 。所有清洗可以在最高温度为摄氏 40℃以下清洗 60 分钟，所需用品量以每100 加仑 (379 升 ) 中加入量计算，配制清洗液时按比例加入药品及清洗用水，应采用不含游离氯的反渗透产品水来配制溶液并混合均匀。
清洗时将清洗溶液以低压大流量在膜的高压侧循环，此时膜元件仍装压力容器内而且需要用专门的清洗装置来完成该工作。
清洗反渗透膜元件的一般步骤：
1. 用泵将干净、无游离氯的反渗透产品水从清洗箱 ( 或相应水源 ) 打入压力容器中并排放几分钟。
2. 用干净的产品水在清洗箱中配制清洗液。
3. 将清洗液在压力容器中循环 1 小时或预先设定的时间，对于8 英寸或 8.5 英寸压力容器时，流速为 35~40 加仑/分钟 (133~151 升/分钟 ) ，对于 6 英寸压力容器流速为 15~20 加仑/分钟 (57~76 升/分钟 ) ，对于 4 英寸压力容器流速为 9~10 加仑/分钟 (34~38 升/分钟 ) 。
4. 清洗完成以后，排净清洗箱并进行冲洗，然后向清洗箱中充满干净的产品水以备下一步冲洗。
5. 用泵将干净、无游离氯的产品水从清洗箱 ( 或相应水源 ) 打入压力容器中并排放几分钟。
6. 在冲洗反渗透系统后，在产品水排放阀打开状态下运行反渗透系统，直到产品水清洁、无泡沫或无清洗剂 ( 通常需 15~30 分钟 ) 。
Ⅷ 硫酸钙垢用什么清洗剂才能清除干净
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Ⅸ 反渗透如何反洗
反渗透膜正常运行一段时间后，反渗透膜元件会受到给水中可能存在悬浮物或难溶盐的污染，这些污染中最常见的碳酸钙沉淀、硫酸钙沉淀、金属(铁、锰、铜、镍、铝等)氧化物沉淀、硅沉积物、无机或有机沉积混合物、NOM天然有机物质、合成有机物(如：阻垢剂/分散剂，阳离子聚合电解质)微生物藻类、霉菌、真菌)等污染。污染性质和污染速度取决于各种因素，如给水水质和系统回收率。通常污染是渐进发展的,如不尽早控制，污染将会在相对较短的时间内损坏膜元件。当膜元件确证已被污染，或是临时停机之前，或是作为定期日常维护，建议对膜元件进行清洗。当反渗透系统（或装置）出现以下症状时，需要进行化学清洗或物理冲洗：正常给水压力下，产水量较正常值下降10-15%,为维持正常的产水量，经温度校正后的给水压力增加10-15%,产水水质降低10-15%,透盐率增加10-15%,给水压力增加1015%,系统各段之间压差明显增加。
已受污染的反渗透膜的清洗周期根据现场实际情况而定。正常的清洗周期是每3-12个月一次。当膜元件仅仅是发生了轻度污染时，重要的清洗膜元件。重度污染会因阻碍化学药剂深入渗透至污染层，影响清洗效果。
清洗何种污染物以及如何清洗要根据现场污染情况而进行。对于几种污染同时存在复杂情况，清洗方法是采用低PH和高PH清洗液交替清洗（应先低PH后高PH值清洗）
污染物情况分析:1碳酸钙垢：碳酸钙垢是一种矿物结垢。当阻垢剂/分散剂添加系统出现故障时，或是加酸pH调节系统出故障而引起给水pH增高时，碳酸钙垢有可能沉积出来。尽早地检测碳酸钙垢，对于防止膜层表面沉积的晶体损伤膜元件是极为必要的早期检测出的碳酸钙垢可由降低给水的pH值至3-5运行1-2小时的方法去除。对于堆积时间长的碳酸钙垢，可用低pH值的柠檬酸溶液清洗去除。2硫酸钙、硫酸钡、硫酸锶垢：硫酸盐垢是比碳酸钙垢硬很多的矿物质垢，且不易去除。硫酸盐垢可在阻垢剂/分散剂添加系统出现故障或加硫酸调节pH时沉积出来。尽早地检测硫酸盐垢对于防止膜层表面沉积的晶体损伤膜元件是极为必要的硫酸钡和硫酸锶垢较难去除，因为它几乎在所有的清洗溶液中难以溶解，所以，应加以特别的注意以防止此类结垢的生成。3金属氧化物/氢氧化物污染：典型的金属氧化物和金属氢氧化物污染为铁、锌、锰、铜、铝等。这种垢的形成导因可能是装置管路、容器(罐/槽)腐蚀产物，或是空气中氧化的金属离子、氯、臭氧、钾、高锰酸盐，或是由在预处置过滤系统中使用铁或铝助凝剂所致。4聚合硅垢：硅凝胶层垢由溶解性硅的过饱和态及聚合物所致，且非常难以去除。需要注意的这种硅的污染不同于硅胶体物的污染。硅胶体物污染可能是由与金属氢氧化物缔合或是与有机物缔合而造成的硅垢的去除很艰难，可采用传统的化学清洗方法。现有的化学清洗药剂，如氟化氢铵，已在一些项目上得到胜利的使用，但使用时须考虑此方法的操作危害和对设备的损坏，加以防护措施。5胶体污染：胶体是悬浮在水中的无机物或是有机与无机混合物的颗粒，不会由于自身重力而沉淀。胶体物通常含有以下一个或多个主要组份，如：铁、铝、硅、硫或有机物。6非溶性的天然有机物污染(NOM),非溶性天然有机物污染(NOMNaturOrganicMatter)通常是由地表水或深井水中的营养物的分解而导致的有机污染的化学机理很复杂，主要的有机组份或是腐植酸，或是灰黄霉酸。非溶性NOM被吸附到膜表面可造成RO膜元件的快速污染，一旦吸收作用发生，渐渐地结成凝胶或块状的污染过程就会开始。7微生物堆积：有机堆积物是由细菌粘泥、真菌、霉菌等生成的这种污染物较难去除，尤其是给水通路被完全堵塞的情况下。给水通路堵塞会使清洁的进水难以充分均匀的进入膜元件内。为抑制这种沉积物的进一步生长，重要的不只要清洁和维护RO系统，同时还要清洁预处理、管道及端头等。对膜元件采用氧化性杀菌时，使用认可的杀菌剂。
清楚污染物惯例清洗液介绍1.[溶液1]2.0%W柠檬酸(C6H8O7低pH)pH值为3-4清洗液。以于去除无机盐垢(如碳酸钙垢、硫酸钙、硫酸钡、硫酸锶垢等)金属氧化物/氢氧化物(铁、锰、铜、镍、铝等)及无机胶体十分有效。
2.[溶液2]0.5%W盐酸低pH清洗液(pH为2.5)主要用于去除无机物垢(如碳酸钙垢、硫酸钙、硫酸钡、硫酸锶垢等)金属氧化物/氢氧化物(铁、锰、铜、镍、铝等)及无机胶体。这种清洗液比溶液1要强烈些，因为盐酸(HCl)为强酸。3[溶液3]0.1%W氢氧化钠高pH清洗液(pH为11.5）用于去除聚合硅垢。这一洗液是一种较为强烈的碱性清洗液。4.[溶液4]氢氧化钠-EDTA四钠-六偏磷酸钠清洗液。
清洗步骤：先用杀菌剂如1227清洗，再用溶液1清洗，再用溶液4清洗，最后用水冲洗至中性，所用水应为反渗透产水。
Ⅹ 反渗透膜结垢的原因是什么如何防止
在系统正常运行一段时间后，反渗透膜元件会受到给水中可能存在内的悬浮物或容难溶盐的污染，这些污染中最常见的是碳酸钙沉淀、硫酸钙、硫酸钡、硫酸锶沉淀、金属（铁、锰、铜、镍、铝等）氧化物沉淀、硅沉积物、无机或有机沉积混合物、NOM天然有机物质、合成有机物（如：阻垢剂/分散剂，阳离子聚合电解质）、微生物（藻类、霉菌、真菌）等。
物理清洗膜元件：低压力、高流速的将反渗透产水来冲刷膜元件，可以把短期内在膜表面附着的污染物和堆积物清洗掉的一种有效方法。一般物理清洗频率较高。
化学清洗膜元件：有些结垢情况通过物理清洗很难去除附着在膜元件表面的污染物和堆积物。这个时候就需要通过化学药剂来对结垢进行去除。为了能够达到最佳的清洗效果一般都是通过多种化学清洗药剂进行组合清洗。而且药剂的选择以及清洗顺序也是有严格要求的。
详细预防方法可见官网：网页链接