运行中混床树脂层升高

Ⅰ 混床树脂分层不好如何影响出水水质

陶氏混床树脂分层不好会产生“交叉污染”，而这个污染对混床出水水质有如下两个方面的影响：

1、分层不好是导致混床出水pH值偏低的主要原因。由于树脂分层不好，陶氏树脂会受到再生酸的污染。即：ROH+HCl—RCl+H20。当混床正洗或运行时，由于水中pH值不断升高(直至4～7)，在这样的pH范围内，被酸污染的树脂会产生水解：RCl+H20—ROH+HCl。由于水解产物HCl的影响，因而出现混床正洗时间过长或出水pH值偏低的情况。

陶氏混床树脂

2、分层不好是导致混床出水含盐量偏高的主要原因。由于分层不好，阳树脂会受到再生碱的污染。即：RH+NaOH—RNa+H20。这样在混床正洗或运行时，阳树脂上的Na+会被逐渐置换出来，进入水中。这样一方面会使床子的正洗时间延长，另外也会使混床在运行时出水含盐量高。

陶氏混床树脂

陶氏混床树脂的分层效果与下列因素

1、树脂的湿真密度差。生产实践表明：要保证混床树脂有较好的分层效果，阳、阴树脂间的湿真密度差应在15%～20%以上。树脂的湿真密度差小于上述数值的，阳、阴树脂的分层效果不好。

2、树脂的粒度。树脂粒度不均也会影响分层。为了保证分层效果，阳、阴树脂的粒度应均匀，一般要求其粒度为0.3—0.5mm，均筛分大于90%(即90%的树脂粒度变化范围在±100斗m之内)。

3、树脂的失效程度。树脂在吸着不同离子后，密度不同、沉降速度也不同。对阳树脂而言，不同离子型的密度排列为：pH当混床运行至终点时，如底层尚未失效的树脂较多，则由上述排列可知：未失效的阳树指(H型)和已失效的阴树脂(S04型)密度差较小，所以分层就比较困难。此时，往往需反洗数次，才能完全地分层。

陶氏混床树脂

4、“抱团”现象。H型和OH型树脂有互相黏合的现象(俗称“抱团”)，使分层困难。在实际生产中，为了克服③、④的困难，可采用在分层前向床中打部分碱，将阴树脂再生成OH型，使阳树脂转变成Na型，使两种树脂的密度差加大，从而加快其分层。

5、反洗操作不适当，反洗流速过小或时间过短。

Ⅱ 混床正在运行电导突然升高的原因

混床SI的监测，能体现出混床对活性二氧化硅的监测。当混床出水中二氧化硅超标时，那么说明此时混床中的阴离子早已穿透，所以此时需要结合混床产水电导来监测。
而当混床中的阳树脂量偏少或者再生时酸浓度异常或者酸纯度异常等情况，前面得运行阳床中的钠离子穿透将直接穿透混床。

所以混床硅和电导都合格的情况下钠可能会超标。正常情况下，只需要监测混床出口的活性二氧化硅和电导。手动取样分析是监测钠，只是通过测定来分析混床运行或再生时，是否存在异常。用来辅助再生和运行操作

Ⅲ 混床运行中树脂分层的原因及处理方法

1、混合时间不够
2、混合时的压缩空气压力及流量不够
处理办法：
1、延长混合时间
2、保证压缩空气压力及流量

Ⅳ 混床电导率偏高

就算你加进去了！那也问题不大，你的膜怎么样？
你的混床的树脂看是不是哪个厂家给你卖的是假货，如果树脂没问题就看你酸碱再生怎么样！

Ⅳ 混床树脂出碱水什么原因

摘要 一、混床树脂分层对出水水质的影响说明

Ⅵ 抛光混床的抛光树脂分层是什么原因引起的，怎么来避免

抛光树脂的分层一般分以下几个原因引起：
1）很多用户为了树脂在装填时能同步排除树脂层缝隙中的气泡，从而降低冲洗时间和降低水耗，提高树脂交换容量的利用率，于是在初次装填时在抛光柱内注水，有时由于注水过高（一般要求10cm即可）导致分层，如果非专业技术人员装填，其实可以免去注水这一步骤，直接干装效果会更稳定；
2）抛光混床使用过程中，由于生产用水不稳定，设备在运行过程中，存在用用停停现象，用于一般抛光混床树脂设备都是上进水通过中心管后，由下部缓慢往上制水，由于用时树脂层被顶起，停时树脂层又降落，如此多次后导致树脂层松动，而出现分层情况。这类设备可以在出水口加装止回阀或设计循环制水；
3）由于部分小树脂厂，为了降低生产成本，对抛光树脂的再生率要求不高，导致树脂本身抱团不够紧密，容易在运行过程中自然分层。
以上回答如有疑问，可点击我头像内部信息进一步交流。

Ⅶ 运行中的混床强行输出树脂怎么解决

这是指设备跑树脂了吧，咋还用强行输出树脂这么牛的词语呢😆
解决方法如下：
1、掏出混床设备内的树脂，检查底部水冒是否松动跑树脂了；
2、顺带着检查中排管是否平整，中排管是否也存在跑树脂的情况。
混床设备都是上进水下出水，所以跑树脂肯定从底部跑出去的，那么基本判断就是底部水冒松动了。

Ⅷ 混床有哪些运行注意事项

混床出水一般很稳定，工作条件变化时，对其出水水质影响不大。进水的含盐量和树脂的再生程度对出水电导率的影响一般不大，而与混床的工作周期有关。对于净化一级除盐水的混床，树脂用量有较大的富余度，其工作周期一般在15天以上。对混床的流速应适当地选择，过慢会携带树脂内的杂质而使水质下降；过快水与树脂接触时间短，离子来不及交换而影响水质。因此运行流速一般在40〜60m/h之间。系统间断运行对混床出水水质影响也较小，无论是混床或是复床，当交换器停止工作后再投入运行时，开始出水的水质都会下降，要经短时间运行后才能恢复正常，混床恢复正常所需的时间要比复床的短。混床运行失效时，终点比较明显。由混床出水特性可以看出，混床在交换末期，出水导电率上升很快，这有利于实现自动控制

Ⅸ 混床更换树脂后，除盐水二氧化硅高，而未更换树脂的混床产水正常，二氧化硅高怎么处理

混床出水SiO2超标的原因 ：
1.1除硅系统不完善。反渗透装置后续处理直接为二级混床离子交换除盐回. 由于 RO 为物理答除盐,所以一级混床进水中含有 s0:一,cL 一,HC03,HSiO3-等所有 阴离子,经过混床阴 树脂的交换后,进入二级混床的主要是 HCOf,HSi03-两种阴离子,经测定其中 HSi03-含量是xJco;含 倍,这样在终点到达时,失效的二级混床阴树脂中,RHSiO,比例高达75%～85%.这时,常规 的再生方法已无法彻底去除硅酸,所以再次投运时会导致混床出水SiO:含量超标, 将这种现象称之为 "硅污染".硅污染易发生在二级混床的强碱性阴树脂中,用正常的再生方法无法彻 底地将这些硅洗脱 来,其结果往往导致阴树脂的除硅能力较大幅度的下降,再生后混床出水硅含量超标.
2.常规再生方法的不足。 对发生硅污染的混床,常规的再生用碱量不足以保证再生效果,其原因:不足量的再生液流经树脂层时先是发生部分硅化合物被再生下来的过程,部分硅化合物仍残留在树脂中。