ro水和去离子纯净水

㈠ 纯水、RO水、软化水的区别

纯水又称纯净水、去离子水，是指以符合生活饮用水卫生标准的水为原水，通过电渗析器法、离子交换器法、反渗透法、蒸馏法及其他适当的加工方法，制得的密封于容器内，且不含任何添加物，无色透明，可直接饮用的水，也可以称为纯净物（在化学上），在试验中使用较多，又因是以蒸馏等方法制作，故又称蒸馏水。市场上出售的太空水，蒸馏水均属纯净水;但纯水还是少喝为好，因为里面并没有太多人体需要的矿物质。纯水不易导电，是绝缘体。铅酸蓄电池补水时要使用纯水。
在化学角度来看，RO水不是纯净水，即使是有渗透过半透膜，但是并非100%能完全过滤掉一些可溶的盐类的。
RO（Reverses Osmosis）即反渗透的水---亦即市售纯净水.其原理为在原水一端施加大于渗透压力，而产生反渗透作用，此时溶解与非溶解无机盐、重金属、有机物菌体颗粒等无法透过半透膜，使水分子及较小分子之盐类渗过半透膜，流向净水的一边，而污染成分浓缩于原水.原水逐渐浓缩，施加的压力必须逐渐提高，直到无限大.而实际操作时是将浓缩水（废水）排掉，继续供入原水，以保持恒定之压力.简单来说反渗透的功能原理，就像是一支筛子，水被逼迫过一张像是玻璃纸的薄膜，其中只有极小的有机颗粒（粒子）才能通过，而污染不洁的水则由废水口排出.
可以直接喝。
在日常生活中，我们经常见到水壶用久后内壁会有水垢生成。这是什么原因呢？原来在我们取用的水中含有不少无机盐类物质，如钙、镁盐等。这些盐在常温下的水中肉眼无法发现，一旦它们加温煮沸，便有不少钙、镁盐以碳酸盐形成沉淀出来，它们紧贴壶壁就形成水垢。我们通常把水中钙、镁离子的含量用“硬度”这个指标来表示。硬度1度相当于每升水中含有10毫克氧化钙。低于8度的水称为软水，高于17度的称为硬水，介于8～17度之间的称为中度硬水。雨、雪水、江、河、湖水都是软水，泉水、深井水、海水都是硬水。

㈡ 超纯水、去离子水、RO水、蒸馏水、双蒸水的区别

在实验室和科研领域，选择合适的水质至关重要。让我们深入解析五种常见的水处理方式——超纯水、去离子水、RO水、蒸馏水和双蒸水，以理解它们各自的特性与应用。

• 超纯水，又称Ultrapure水，其电阻率超过18.3MΩ*cm，几乎消除了所有导电介质、胶体物质、气体和有机物。实验室常用NANOpure或Milli-Q技术制备，通常源于去离子水或RO水的基础。

从纯度角度看，超纯水>去离子水>双蒸水>RO水>蒸馏水。在实际实验中，超纯水适用于高精度实验，如ICP/MS、同位素分析等，而其他类型的水在特定条件下也能满足一般需求。特别提示，注射用水通常从蒸馏水或去离子水经过蒸馏处理来去除热源。

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㈢ 请问超纯水和去离子水是不是一回事

不是一回事。

超纯水和去离子水的区别：

1、概念不同

去离子水是指除去了呈离子形式杂质后的纯水。国际标准化组织ISO/TC 147规定的“去离子”定义为：“去离子水完全或不完全地去除离子物质。”

超纯水（Ultrapure water）又称UP水，是指电阻率达到18 MΩ*cm（25℃）的水。这种水中除了水分子外，几乎没有什么杂质，更没有细菌、病毒、含氯二恶英等有机物，当然也没有人体所需的矿物质微量元素，也就是几乎去除氧和氢以外所有原子的水。

2、制备不同

超纯水：

在原子光谱、高效液相色谱、超纯物质分析、痕量物质等的某些实验中，需要用超纯水，超纯水的制备如下：

（1）加入少量高锰酸钾的水源，用玻璃蒸馏装置进行二次蒸馏，再以全石英蒸馏器进行蒸馏，收集于石英容器中，可得超纯水。

（2）使用强酸型阳离子和强碱型阴离子交换树脂柱的混合床或串联柱。可充分除去水中的阳、阴离子，其电阻率达10 Q·cm的水，俗称去离子水，再用全石英蒸馏器进行蒸馏，收集可得超纯水。

去离子水：

去离子水是通过离子交换树脂除去水中的离子态杂质而得到的近于纯净的水，其生产装置设计的合理与否直接关系到去离子水质量的好坏及运营的经济性。

3、用途不同

超纯水的用途：

电子、电力、电镀、照明电器、实验室、食品、造纸、日化、建材、造漆、蓄电池、化验、生物、制药、石油、化工、钢铁、玻璃、化工工艺用水、化学药剂、化妆品、

单晶硅、半导体晶片切割制造、半导体芯片、半导体封装 、引线柜架、集成电路、液晶显示器、导电玻璃、显像管、线路板、光通信、电脑元件 、电容器洁净产品及各种元器件、高压变电器的清洗等

去离子水的用途：

实验室、化验室用水，一般实验室的常规试验、配置常备溶液、清洗玻璃器皿等；电子工业生产，如显像管玻壳、显像管、液晶显示器、线路板、计算机硬盘、集成电路芯片、单晶硅半导体等；电力锅炉，锅炉所需软化水、除盐；

汽车、家用电器、建材表面涂装、电镀、镀膜玻璃清洗等；石油化工行业,化工反应冷却水、化学药剂、生产配液用水等；工业纺织印染、钢铁清洗用水等；食品、饮料、酒类、化妆品生产用水；海水、苦咸水等净化。

㈣ 半导体制造对去离子水的要求

可以饮用，但必须确保是去离子水而不是无色无味的化学药液。

带RO反渗膜的家用净水机和超市卖的不添加氯化镁/钙的纯净水其实就是去离子水。半导体工厂的去离子水和超市里的纯净水都是经过反渗膜过滤的去离子水，不过半导体工厂的去离子水杂质和离子去除率更高。

长期大量喝纯净水/去离子水会导致矿物质缺乏，如缺钙，但不是很严重，食物里还是含有很多矿物质。

据说很多实验室会用某哈哈纯净水代替去离子水，效果不错，杂质少离子少，价格比专门买去离子水便宜很多。
半导体从业者对芯片都有一定程度的了解，但我相信除了在晶圆厂的人外，很少有人对工艺流程有深入的了解。在这里我来给大家做一个科普。首先要做一些基本常识科普：半导体元件制造过程可分为前段制程（包括晶圆处理制程、晶圆针测制程）；还有后段（包括封装、测试制程）。

零、概念理解 所谓晶圆处理制程，主要工作为在硅晶圆上制作电路与电子元件（如电晶体、电容体、逻辑闸等），为上述各制程中所需技术最复杂且资金投入最多的过程 ，以微处理器（Microprocessor）为例，其所需处理步骤可达数百道，而其所需加工机台先进且昂贵，动辄数千万一台，其所需制造环境为为一温度、湿度与 含尘（Particle）均需控制的无尘室（Clean-Room），虽然详细的处理程序是随著产品种类与所使用的技术有关；不过其基本处理步骤通常是晶圆先经过适 当的清洗（Cleaning）之後，接著进行氧化（Oxidation）及沈积，最後进行微影、蚀刻及离子植入等反覆步骤，以完成晶圆上电路的加工与制作。

晶圆针测制程则是在制造好晶圆之后，晶圆上即形成一格格的小格 ，我们称之为晶方或是晶粒（Die），在一般情形下，同一片晶圆上皆制作相同的晶片，但是也有可能在同一片晶圆 上制作不同规格的产品；这些晶圆必须通过晶片允收测试，晶粒将会一一经过针测（Probe）仪器以测试其电气特性， 而不合格的的晶粒将会被标上记号（Ink Dot），此程序即 称之为晶圆针测制程（Wafer Probe）。然後晶圆将依晶粒 为单位分割成一粒粒独立的晶粒。

IC封装制程（Packaging）：利用塑胶或陶瓷包装晶粒与配线以成集成电路；目的是为了制造出所生产的电路的保护层，避免电路受到机械性刮伤或是高温破坏。而后段的测试则是对封装好的芯片进行测试，以保证其良率。

㈤ 纯净水、去离子水和蒸馏水有什么区别都各主要用于那些方面

超纯水来：Ultrapure水 （超纯水自），既将水中的导电介质几乎完全去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水。电阻率大于18MΩ*cm，或接近18.3MΩ*cm极限值。

RO水：也称纯水。即通过反渗透膜过滤后的水，反渗透膜的孔径一般为10A到100A之间，所以它能够去除95%以上的离子态杂质。

蒸馏水：利用液体混合物中各组分挥发度的差别，使H2O汽化并随之使蒸气部分冷凝分离而得的水。

ddH2O：Distillation-Distillation H2O（双蒸水）,经过2次蒸馏而得的水。

去离子水，把水里的阴阳离子都除掉的水。主要通过RO膜和混床树脂来把水中的离子除掉。但，现在也有不少人把RO水也叫去离子水，这是不准确的。

超纯水是时下纯度最高的水，其次是双级反渗透水（双级RO水）、双蒸水（ddH2O）、纯水（RO水）、蒸馏水。

超纯水作为所有的实验用水都可以，特别是高灵敏度ICP/MS、ppt级分析、同位素分析、疾控中心、药检所、质检所、环监站、高校科研等标准实验室及各种高端精密仪器用水。其他的纯水及双蒸水根据实际情况，在要求不是很严格的情况下也可以用的。