水处理edi设备规格

Ⅰ EDI连续电除盐水处理设备的EDI设备进水指标要求

◎通常为单级反渗透或二级反渗透的渗透水
◎TEA（总可交换阴离子，以CaCO3计）：专<25ppm。
◎电导率：属<40μS/cm
◎PH：6.0～9.0。当总硬度低于0.1ppm时，EDI最佳工作的pH范围为8.0～9.0。
◎温度： 5～35℃。
◎进水压力：<4bar（60psi）。
◎硬度：（以CaCO3计）：<1.0ppm。
◎有机物（ TOC）：<0.5ppm。
◎氧化剂：Cl2<0.05ppm，O3<0.02ppm。
◎变价金属： Fe<0.01ppm，Mn<0.02ppm。
◎H2S：<0.01ppm。
◎二氧化硅：<0.5ppm。
◎色度：<5APHA。
◎二氧化碳的总量：<10ppm
◎ SDI 15min：<1.0。

Ⅱ EDI超纯水设备指的什么

EDI超纯水设备指的是用于制备超纯水的EDI设备。EDI，又称电去离子技术，它是将“专电渗析技术”和“离子属交换技术”两项技术结合起来的一种深度脱盐技术，即在电渗析的淡水室隔板中填充离子交换树脂，既保留了电渗析可连续脱盐及离子交换树脂可深度脱盐的优点，同时又克服了电渗析浓差极化所造成的不良影响及离子交换树脂所需要的酸碱再生过程，既简化了处理工艺又避免了环境污染。

Ⅲ 电子工业超纯水设备的应用范围

为了满足电子行业用水需求，根据光电材料，液晶显示屏生产，加工，清洗等所需使用超纯水标准，而设计并生产的一套超纯水设备。

edi水处理设备出水符合标准

超纯水设备出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。

edi超纯水装置-电子行业超纯水系统

edi超纯水系统工艺流程

预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)

应用领域

电解电容器生产铝箔及工作件的清洗

电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液

显像管和阴极射线管生产、配料用纯水

黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水

液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液

晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制

集成电路生产中高纯水清洗硅片

半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路

LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏

高品质显像管、萤光粉生产

半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗

超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料

实验室和中试车间

汽车、家电表面抛光处理

光电产品、其他高科技精微产品

Ⅳ 高纯水设备高纯水设备（EDI）概述

EDI高纯水设备，作为反渗透设备后的二次除盐设备，被广泛应用于微电子工业、半导体工业、发电工业、制药行业和实验室等众多领域。其能够制取出高达10-18.2MΩ.CM的超纯水，满足了不同行业对高纯水的高标准需求。

在微电子工业中，高纯水是芯片制造过程中不可或缺的关键原料，直接关系到产品的性能与稳定性。EDI设备通过电渗析原理，将离子交换膜与离子选择性树脂相结合，实现对水中的离子有效去除，从而提供纯净度极高的超纯水。

半导体工业同样对高纯水有极高要求，从晶片清洗到制造过程中的化学反应，每一环节都离不开纯净的水。EDI设备的高效除盐能力，确保了半导体制造过程中的纯净水质，对于提升产品性能、降低生产成本具有重要意义。

发电工业中，锅炉补给水的纯净度直接影响到热效率与设备寿命。EDI设备能够去除水中的离子杂质，提供纯净的补给水，保证了发电系统的稳定运行与高效能。

在制药行业中，高纯水是生产高质量药品的必要条件之一。从药物配制到清洗设备，都需要纯净的水以保证药品的纯度和安全。EDI设备通过精细的除盐过程，确保了制药过程中使用的水质量，支持了药品生产的高标准。

此外，EDI设备还被应用于食品饮料生产、实验室研究等众多领域。无论是为食品饮料提供纯净的生产用水，还是为科学研究提供高质量的实验用水，EDI设备都能满足不同应用场景对高纯水的需求，为各行业提供了可靠的水处理解决方案。