edi出水指标多少

① 实验室超纯水设备的介绍

超纯水设备所使用的EDI技术在学术上又被叫做连续电除盐技术，此专种技术从专业角度讲是一种属不消耗酸碱，就能制备超纯水的技术，主要应用工业有微电子工业、半导体工业、发电工业、制药行业以及实验室等应用日趋广泛。

其出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部超纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。

随着人们对水质要求越来越高，水处理技术也在不断创新，但是很多水处理技术无法摆脱传统思想观念，没有太多创新和改进。而超纯水设备所应用的新型水处理技术将彻底改变传统观念，为水处理行业做出巨大贡献，也为水处理技术带来一次飞跃性变革。

② EDI连续电除盐水处理设备的EDI设备进水指标要求

◎通常为单级反渗透或二级反渗透的渗透水
◎TEA（总可交换阴离子，以CaCO3计）：专<25ppm。
◎电导率：属<40μS/cm
◎PH：6.0～9.0。当总硬度低于0.1ppm时，EDI最佳工作的pH范围为8.0～9.0。
◎温度： 5～35℃。
◎进水压力：<4bar（60psi）。
◎硬度：（以CaCO3计）：<1.0ppm。
◎有机物（ TOC）：<0.5ppm。
◎氧化剂：Cl2<0.05ppm，O3<0.02ppm。
◎变价金属： Fe<0.01ppm，Mn<0.02ppm。
◎H2S：<0.01ppm。
◎二氧化硅：<0.5ppm。
◎色度：<5APHA。
◎二氧化碳的总量：<10ppm
◎ SDI 15min：<1.0。

③ 科瑞斯EDI模块RC-500 型号有哪些特点

科瑞斯EDI模块RC-500型号具备多项特点，性价比高，适用于水处理、原水处理、高纯水、EDI装置等行业。技术参数方面，操作压力为0.7（Mpa），水电阻率为16兆欧，出水量为5立方/小时，外形尺寸、电压、水质、功率、电流、脱盐率及单机出力等指标也均表现出色。

科瑞斯EDI膜堆RC-500型号的优点包括工作连续制造纯水，无间断运行；无须加盐系统；不需要酸、碱化学试剂对树脂再生；回收率高，废水易于循环再用；出水水质稳定；容易实现膜块组合达到制水能力要求；运行费用低，符合环保要求。

在应用领域方面，科瑞斯EDI膜堆RC-500型号广泛应用于电厂化学水处理、电子、半导体行业超纯水、精密机械行业超纯水、制药工业工艺用水、实验室研究用超纯水、精细化工、精尖学科用水以及其它行业所需的高纯水制备。

④ 电子工业超纯水设备的应用范围

为了满足电子行业用水需求，根据光电材料，液晶显示屏生产，加工，清洗等所需使用超纯水标准，而设计并生产的一套超纯水设备。

edi水处理设备出水符合标准

超纯水设备出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。

edi超纯水装置-电子行业超纯水系统

edi超纯水系统工艺流程

预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)

应用领域

电解电容器生产铝箔及工作件的清洗

电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液

显像管和阴极射线管生产、配料用纯水

黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水

液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液

晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制

集成电路生产中高纯水清洗硅片

半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路

LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏

高品质显像管、萤光粉生产

半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗

超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料

实验室和中试车间

汽车、家电表面抛光处理

光电产品、其他高科技精微产品

⑤ EDI纯水机的EDI主要经济技术指标

1、预处理流量≥2.5T/H；
2、一级反渗透产水≥1.5T/H；
3、二级反渗透产水≥1T/H；
4、一级反渗透电导率版≤权15μs/cm；
5、二级反渗透电导率≤10μs/cm；
6、EDI产水电阻率≥14MΩ·CM；
7、抛光混床产水电阻率≥17MΩ·CM（采用核子级树脂）（内装25L，每升可产水35-50吨）；
8、EDI产水流量≥1000L/H；
9、一级反渗透水利用率≥65%；
10、二级反渗透水利用率≥85%；
11、EDI水利用率≥90%；
12、EDI使用寿命：3-5年（当水质、水量不符合标准时需要对膜块进行清洗）。

⑥ EDI连续电除盐水处理设备EDI设备进水指标要求

通常，用于EDI连续电除盐水处理设备的进水应为经过单级反渗透或二级反渗透处理的渗透水。在进入EDI设备前，水中的TEA（总可交换阴离子，按照CaCO3计算）需控制在小于25ppm的范围内。电导率需保持在低于40μS/cm的水平，而pH值则应在6.0到9.0之间。当总硬度低于0.1ppm时，最优的pH工作范围为8.0到9.0。水的温度应在5到35℃之间，进水压力应不超过4bar（60psi）。硬度需控制在以CaCO3计小于1.0ppm的水平。有机物（TOC）应低于0.5ppm。氧化剂如Cl2应少于0.05ppm，O3应少于0.02ppm。变价金属，如Fe和Mn，需分别控制在0.01ppm和0.02ppm以下。H2S需少于0.01ppm，二氧化硅控制在小于0.5ppm的水平。水的色度应低于5APHA。二氧化碳总量应小于10ppm。最后，SDI（15分钟）需小于1.0，以确保水质的纯净度。

⑦ 水处理技术中EDI电导率是多少

1. EDI水处理装置

EDI水处理装置又称连续电除盐技术，它科学地将电渗析技术和离子交换技术融为一体，通过阳、阴离子膜对阳、阴离子的选择透过作用以及离子交换树脂对水中离子的交换作用，在电场的作用下实现水中离子的定向迁移，从而达到水的深度净化除盐，并通过水电解产生的氢离子和氢氧根离子对装填树脂进行连续再生，

2、因此EDI水处理装置制水过程不需酸、碱化学药品再生即可连续制取高品质超纯水，EDI水处理装置具有技术先进、结构紧凑、操作简便的优点，可广泛应用于电力、电子、医药、化工、食品和实验室领域，是水处理技术的绿色革命。EDI水处理装置这一新技术可以代替传统的离子交换装置，生产出电阻率高达16-18MΩ·CM的超纯水。