❶ EDI系统在制取超纯水中是怎样工作的
在过去的二十多年,反渗透已经在工业上被接受,用来代替阳床和阴床,现在EDI系统也在精制领域代替了混床,与反渗透一起,EDI系统将提供一个连续运行的、无化学处理的系统。
EDI的工作流程:
EDI模块(膜堆)是EDI工作的核心。一个简单的EDI膜堆主要由两个电性相反的电极和多个模块单元对组成,一个膜单元对由一个填满阳离子和阴离子交换树脂的淡水室(D-室)、一个阳膜、一个浓水室(C-室)组成。EDI膜堆包含多个膜单元堆。在每个膜堆的内部有两个带有600V电压的电极,这是通过每个膜堆必需的电压。正极带正电压,负极带负电压,电流在正极和负极之间通过30个膜单元。
❷ 运行压力对EDI超纯水系统有哪些影响
EDI装置运行的影响 EDI装置运行是否稳定受到很多因素的影响,在整套超纯水制备系统中EDI装置起到核心的作用,所以如果EDI模块运
❸ 如果给水不好会对超纯水设备的EDI装置产生什么影响
给水里的污染物会对除盐组件有负面影响,增加维护量并降低膜组件的寿命。具体影响如下:
污染物对除盐效果的影响
对EDI影响较大的污染物包括硬度(钙、镁)、有机物、固体悬浮物、变价金属离子(铁、锰)、氧化剂(氯,臭氧)和二氧化碳(CO2)以及细菌。
设计RO/EDI系统时应在EDI的预处理过程除掉这些污染物。给水中这些污染物的浓度限制见3.2节。在预处理中降低这些污染物的浓度可以提高EDI性能。其它有关EDI设计策略将在本手册其它部分详述。
氯和臭氧会氧化离子交换树脂和离子交换膜,引起EDI组件功能减低。氧化还会使TOC含量明显增加,污染离子交换树脂和膜,降低离子迁移速度。另外,氧化作用使得树脂破裂,通过组件的压力损失将增加。铁和其它的变价金属离子可对树脂氧化起催化作用,永久地降低树脂和膜
的性能。
硬度能在反渗透和EDI单元中引起结垢。结垢一般在浓水室膜的表面发生,该处pH值较高。此时,浓水入水和出水间的压力差增加,电流量降低。坎贝尔?组件设计采取了避免结垢的措施。不过,使入水硬度降到最小将会延长清洗周期并且提高EDI系统水的利用率。悬浮物和胶体
会引起膜和树脂的污染和堵塞,树脂间隙的堵塞导致EDI组件的压力损失增加。
有机物被吸引到树脂和膜的表面导致其被污染,使得被污染的膜和树脂迁移离子的效率降低,膜堆电阻将增加。
二氧化碳有两种效果。首先,CO32-和Ca2+、Mg2+形成碳酸盐类结垢,这种垢的形成与给水的离子浓度和pH有关。其次,由于CO2的电荷与pH值有关,而其被RO和EDI的去除都依赖于其电荷,因此它的去除效率是变化的。即使较低的CO2都能显著地降低产品水的电阻率。
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❹ 请问超纯水设备中EDI系统是什么
EDI电除盐纯水设备供应商,EDI电除盐纯水设备技术概述
电除盐将离子交换树脂填充在阴、阳离子交换膜之间形成EDI单元,又在这个单元两边设置阴、阳电极,在直流电作用下,将离子从其给水(通常是反渗透纯水)中进一步清除离子交换膜和离子交换树脂的工作原理相近,可以使特定的离子迁移。阴离子交换膜只允许阴离子透过,不允许阳离子透过;而阳膜只允许阳离子透过,不允许阴离子透过。
在EDI组件中将一定数量的EDI单元罗列在一起,使阴离子交换膜和阳离子交换膜交替排列。并使用网状物将每个EDI单隔开,形成浓水室。EDI单元中间为淡水室。在给定的直流电的推动下,给水通过淡水室水中的离子穿过高子交换膜进入浓水室被去除而成为除盐水;通过浓水将离子带出系统,成为浓水。
EDI电除盐纯水设备组件将给水分成三股独立的水流
1、纯水(最高利用率为99%)
2、浓水(5-10%,可以用于RO给水
3、极水(1%,排放)
极水先经过阳极流入阴极水可从电极区排除电解产生的氯气、氧气和氢气体。
EDI电除盐纯水设备过程细节
一般城市水源中存在钠、钙、镁、氯化物、硝酸盐、碳酸氢盐、二氧化硅等溶解物。这此化合物由带负电荷的阴高子和带正电荷的阳离子组成。通过反渗透(RO)的处理,98%以上的离子可被去除。另外,原水中也可能包括其它微量元素、溶解的气体(例如CO2)和一些弱电解质(例如硼,二氧化硅),这些杂质在工业除盐水中也必须被除掉。RO纯水(EDI给水)电阻率的一般范围是0.05-0.25MΩcm,即电导率的范围是20-4US/cm。根据应用的情况,去离子水电阻率2MΩcm。EDI除盐过程。将水中离子和离子交换树用脂中的氢氧根离子或氢离子交换,然后使这些离子迁移进入到浓水中。这就是EDI电除盐纯水设备除盐过程。
❺ EDI纯水到底是什么东西啊
EDI纯水应该是使用EDI模块制成的纯水。
EDI制备纯水的原理:
EDI连续电除盐水内处理设备(电解式连续去容离子)为模块式设备,可根据需要任意组合,该系统不需要停机再生,无需酸碱,因此废水排放问题也得到解决,更符合环保要求。可将水的电阻值由0.05-
0.1MQ/cM提升至15-18MQ/cM。EDI装置现已应用在半导体、电厂、电子、制药、实验室等领域制备高纯水;阴阳离子及混床离子交换水处理设备是利用阴阳离子树脂与水中溶解性盐类离子进行离子交换的水处理技术;
根据最终去除水中阴阳离子及混床离子交换除盐水系统的交换特性,可将系统分为:单床式离子交换除盐系统、双床式离子交换除盐系统和混床式离子交换除盐系统。
❻ 超纯水设备中EDI装置的常见故障有哪些,怎么诊断呢
超纯水设备中EDI装置的常见故障及排除如下图更多详细的解决方法请登录科瑞环保查看
❼ EDI工业高纯水装置操作需要注意哪些问题
一般来讲EDI高纯水设备就是EDI纯水设备,选用到合适工业高纯水设备以后,为了能够使设备能够长期稳定的运行,运行之前操作注意事项以及日后日常维护都必须认真对待,本文针对EDI工业高纯水设备操作注意事项专门介绍。
1. 在将进水管道连接到工业超纯水系统
EDI摸块之前,用经过过滤的水彻底冲洗管路然后排放。进水管路未经过冲洗会使安装管路碎片进入摸块会导致无法挽回的损失。
2. 用1—2分钟时间缓慢对模块增压以避免水锤造成严重损坏。切勿使模块压力超过允许范围。
3. 确保已经有足够的极水流量,淡水流量,浓水循环流量和浓水排放流量,并确认所有安全保护的联动装置正常工作。
4. 检验没有氯或其他氧化剂进入模块,进水指标必须符合进水的要求。
5.
如果在进水硬度>0.5PPm(CaCO3计)或硅>0.5PPm下运行,或者其它水质指标不符合进水要求而不采取特殊的防范措施,模块可能会损坏.可能需要采用定期用酸清洗或浓水管路软化的方法.请与本公司联系。
6. 对于有加盐泵的系统,盐的质量必须加以仔细检查.盐的成分必须符合用户手册上所列明的指标,否则长期使用会对模块造成无法挽回的损坏。
7. 塑料的管件和接口请小心对待。
❽ 电子工业超纯水设备的应用范围
为了满足电子行业用水需求,根据光电材料,液晶显示屏生产,加工,清洗等所需使用超纯水标准,而设计并生产的一套超纯水设备。
edi水处理设备出水符合标准
超纯水设备出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。
edi超纯水装置-电子行业超纯水系统
edi超纯水系统工艺流程
预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)
应用领域
电解电容器生产铝箔及工作件的清洗
电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液
显像管和阴极射线管生产、配料用纯水
黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水
液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液
晶体管生产中主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制
集成电路生产中高纯水清洗硅片
半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路
LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏
高品质显像管、萤光粉生产
半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗
超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料
实验室和中试车间
汽车、家电表面抛光处理
光电产品、其他高科技精微产品
❾ 有人说在水处理行业中、有一种设施叫EDI,请问它对设备起到什么作用
EDI技术可以用来代替传统的混床离子交换树脂来制取纯水或超纯水,与混专床不同的是EDI淡水室隔属板中填充的离子交换树脂在工作时能够自动获得再生而不会饱和,不需要化学再生,从而使产水程度及出水水质非常稳定。除此之外,EDI技术还具有很多优点,比如可以不间断的出水,再生过程无需酸碱试剂,并且可以做到无人看管的全自动运行装置。